IP复用呈上升趋势，新思投身DFM工具研究事业

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更新于2007-09-25 01:03:35

IP复用 DFM

美国新思(Synopsys)公司首席执行官Aart de Geus表示，越来越多的芯片设计公司，特别是中国和以色列的创新型公司都开始采用IP复用。Aart de Geus指出：“我认为，IP再利用绝对是现代设计公司的关键要素，特别是随着向更小几何尺寸的转移，设计挑战日益严峻之时。”

在其正在研究的大约200项活跃的65nm设计中，新思公司已经发现最大的困难是解决功耗问题。Aart de Geus表示：“在我们的工具中已经完全实现的一种技术能力就是：以不同的电压运行芯片的不同部分。”

设计需要在实现和验证流程中绕开“Frankenstein Flows”。Aart de Geus表示指出：“在实现侧势在必行，因为各种优化目标如速度、面积、功率、可测性和成品率完全相互依赖。”根据Aart de Geus表示的观点，在验证侧，结合了仿真、测试基准、声明和覆盖率测量的一体化本地编译解决方案有很大的好处。随着45nm设计的出现和向更小几何尺寸的转移，新思公司计划把它内建到其工具之中，从而在技术上避免可能对成品率目标造成严重影响的问题。

Aart de Geus表示表示，“我们在过去三年中已经投入巨资对DFM(可制造性设计)工具的各领域进行全面研究，所有的工具最终都汇聚到成品率预测和优化上。”

文章出处：电子工程专辑