第1节 物理汽相淀积(PVD):溅射淀积

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更新于2008-05-14 22:23:02

PVD 溅射 CVD PECVD

物理汽相淀积(PVD):
溅射淀积
我们先回顾CVD 气相反应物: Pg≈ 1 mTorr 至1 atm. 台阶覆
盖好, T > > RT
PECVD 不需增温,等离子增强表面扩散
干法刻蚀 动量从等离子体转移,以便除去表面的物质
-6
我们也将学习蒸发: 蒸发的原材料, P eq.vap.Pg ≤10 Torr 台阶覆盖差,合金
P
(另一种 PVD) 分级:Δ vapor
现在看溅射淀积. 反应气体P≈ 10 mTorr

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