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台联电宣布成功开发出28nm SRAM工艺  2008-10-28 21:55
台联电宣布成功开发出28nm SRAM工艺

台联电(UMC)昨天宣布已制造出了晶圆界首颗全功能28nm SRAM芯片。该芯片基于UMC自主开发的低泄漏(LL)工艺技术,制造中采用了先进的两次图形曝光浸没式光刻和应变硅技术。这种SRAM包含了6个晶体管,尺寸仅0.122平方微米。

据UMC表示,它的28nm工艺比40nm技术密度提高了差不多一倍。

UMC还称将在28nm工艺平台上为客户提供定制32nm工艺晶圆服务。

http://www.edn.com/article/CA6608834.html
 
类别:电子制造 |
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