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术语词典:p-n结 MOS BJT
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集成微电子器件 集成微电子器件
本课程研究微电子物理以及半导体器件在硅集成电路中的应用. 包含相关内容有: 半导体基本原理, p-n 结, 金属-氧化物-半导体结构, 金属-半导体结, MOS 场效应晶体管, 以及双极晶体管. 该课程强调通过能带图和短沟MOSFET器件设计,从物理上理解器件的工作原理. 也概述现代器件按比例缩小的问题. 这个课程有2 个工程设计学分。• 系美国麻省理工学院(MIT)电气工程与计算机科学系教学课程 • 由中国开放教育资源协会(CORE)委托北方工业大学副教授翻译及北京大学教师审校 • 左侧栏可查阅教学资源和测试习题 [ 阅读全文 ]
第1章 基本原理
第2章 金属-半导体结
第3章 p-n 结
介绍p-n 结中的载流子流动原理及p-n 结在加正压和偏压的情况下电流的流动机制
第4章 金属-氧化物-半导体结构
Si表面与金属-氧化物-半导体结构,在热平衡时理想的MOS结构, 在非热平衡时理想的MOS结构
第5章 MOS 场效应晶体管
第6章 双极晶体管
理想BJT,理想BJT的电流-电压特性,理想BJT的电荷-电压特性,理想BJT的小信号行为
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