微电子学处理技术
当前课程介绍了微/纳制造的原理和工艺.理论课程和实验课程部分集中在基本的工艺技术,比如扩散,氧化,光刻,化学气相沉积等等.通过小组的实验,希望同学们能够了解这些工艺技术,以及怎样将它们应用于器件制造.学习这门课程的同学有唯一的机会采用现代工艺和技术制作和测试微/纳米器件。• 由中国开放教育资源协会(CORE)委托四川大学教授翻译及审校 • 左侧栏可查阅教学资源和测试习题 [ 阅读全文 ]

引论 课程目的 课程结构 实验室作业 安全

MOSFET的结构 半导体掺杂 作为开关的MOSFET MOSFET的制作过程 MOS电容器的制作过程

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氧化Si Si氧化的Deal-Grove模型 硅氧化的Deal-Grove模型 SiO2/Si 界面, 固定电荷 SiO2/Si 界面 干氧、湿氧氧化

IC 测试 怎样写IEEE文章

掺杂和扩散 I 动机 掺杂和扩散 内部电场E改变Fick’s定律

离子注入 对扩散方程的讨论 离子注入的阻滞效应 沟道效应 通过掩蔽层的离子注入

光刻工艺 曝光的基本原理 曝光系统 先进的光刻技术

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可选的微型品制造以及在医学和生物上的应用

物理汽相淀积(PVD): 溅射淀积

物理汽相淀积(PVD) PVD II:蒸发

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晶体生长

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工艺和测试的回顾 应用流体学 实验报告的指导

光学光刻和其它的光刻技术 负性和正性制版 更多的其他的制版方法