“KLA-Tencor 成立于 1976 年,今年是 KLA-Tencor 成立 40 周年。在高科技行业里,持续、抓实地成长并保持领先地位,是非常不容易的。现在,KLA-Tencor 有 2 万多台设备服务于全球半导体行业;KLA-Tencor 在全球 17 个国家拥有 5600 多位员工。2016 财年,KLA-Tencor 营收达到 30 亿美元。” 近日,KLA-Tencor(科磊)公司在光罩检测系统新品发布会上,科天中国总裁张智安做出上述发言。
科天中国总裁张智安
40 载先进检测技术耕耘路
KLA-Tencor 是一家专注于半导体前端、后端以及相关产业检测与量测的设备厂商,最早涉足的领域为光罩的检测与量测。在硅片检测、线宽量测以及光罩检测与量测方面,KLA-Tencor 都处于业界领先水平。除此之外,KLA-Tencor 还提供技术支持与服务,以帮助客户实现更大的生产价值。
张智安总裁表示:KLA-Tencor 非常重视技术上的革新与发展,这是 KLA-Tencor 这么多年长盛不衰的一个重要原因,过去 4 年,KLA-Tencor 在研发方面的投入超过 2 亿美元。
助力中国半导体产业发展
KLA-Tencor 非常重视中国市场,现在已有 1600 台 KLA-Tencor 的设备深深扎根于中国半导体企业中。除了持续为中国半导体企业提供高端设备,KLA-Tencor 坚持在中国进行持续的投资以实现进一步的发展。KLA-Tencor 不仅在上海设立总部,在北京、天津、苏州、无锡、大连、西安、武汉、深圳设有分支机构。上海总部有着强大的研发实力,而深圳可以完成设备的生产。
从研发、生产、销售到技术支持,KLA-Tencor 坚持与中国半导体产业一起成长。而且张智安总裁表示,KLA-Tencor 早早已经进入中国,进行研发、建设工厂,在过去 10 年一直在等待中国半导体市场的机会。
KLA-Tencor 立志于帮助中国客户一起提升良率,先进的半导体检测与量测技术、最快的速度、最有效的方式,KLA-Tencor 的技术与服务为中国半导体的发展提供助力。生产成本的降低、生产效率的提高,在竞争激烈的今天,KLA-Tencor 为中国半导体企业在市场赢得一席之地提供动力。
“发家”技术,光罩检测与量测
KLA-Tencor 的光罩产品事业部 (RAPID) 副总裁兼总经理熊亚霖博士表示,KLA-Tencor 于 40 年前开发的第一项产品就是光罩检测设备,当时英特尔使用人力在显微镜下进行光罩检测,而 KLA-Tencor 的设备大大提高了光罩检测的效率。
光罩产品事业部副总裁兼总经理熊亚霖博士(左三)
光罩缺陷对良率影响非常严重,每一片光罩都需要经过多次检测,光罩上一个缺陷就极可将良率降到零,所以不允许一个缺陷不被检测到。光罩厂、硅片厂都需要非常优秀的光罩检测设备的支持与辅助,才能保证产品的质量。
由于 EUV 技术仍无法实现量产目标,目前以 193 纳米生产光罩,而困难度及复杂度更高,光罩缺陷的检测挑战性亦日益升高。
10 纳米是一个严峻的挑战,在硅片上辨别缺陷已经很难;同样,在光罩检测与量测方面,也是一个跨越。
近日,KLA-Tencor 针对 10 纳米及以下的掩膜技术推出了三款先进的光罩检测系统,Teron 640、Teron SL655 和光罩决策中心 (RDC)。这三套系统可谓是为实现当前及下一代掩膜设计而生的关键,为光罩厂及集成电路晶圆厂能够更高效地辨识光刻中显着并严重损害成品率的缺陷提供保障。
熊亚霖博士表示,KLA-Tencor 所提供的设备已能应用于第一代 EUV 技术的量产,之后亦能以升级方式量产新一代的 EUV 技术。
Teron 640
Teron 640 建立在光罩业界领先的 Teron 光罩检测平台之上,通过采用 193 纳米光源和双成像模式(结合了高分辨率检测和基于缺陷成像性识别的空中成像)。Teron 640 检测系统支持先进的光学光罩检测,它利用创新的双重成像技术,为光罩厂提供了必要的灵敏度并提供准确的品质检验。Teron 640 的新颖之处在于,它采用光学方法模拟光刻机的办法,与设计做比较,通过成像来判断光罩缺陷。
Teron SL655
Teron SL655 检测系统,采用全新的 STARlightGold 技术作为核心,可帮助集成电路制造商评估新光罩的质量、监测光罩退化、检测光罩缺陷。STARlightGOLD 能够在新光罩质量检查时从光罩生成黄金参考,然后使用此参考进行光罩合格性的重新检测,这种独特的技术实现了全域光罩覆盖,并且创造出最佳的缺陷检测率。
Teron SL655 拥有业界领先的产能,支持更快的生产周期和检测更多数量的光罩,满足先进的多图案技术光罩技术。
RDC
RDC 是一套综合数据分析和存储平台,支持光罩厂和集成电路晶圆厂的多种 KLA-Tencor 光罩检验与测量平台,可实现缺陷识别自动化,从而改善周期时间,并减少关键性错误。
熊亚林博士表示:通过将 Teron 640 和 Teron SL655 生成的大量数据与 RDC 的评估功能紧密结合,光罩厂和集成电路晶圆厂能够更高效地辨识光刻中显著的光罩缺陷,从而改善光罩的质量控制,并获得更好的产品图案成像。
不止奔跑于“最前端”
张智安总裁表示,KLA-Tencor 不仅仅奔跑于“最前端”、提供最先进的设备,KLA-Tencor 根据企业的需求提供设备,服务于整个行业的每个阶段的企业,比如 KLA-Tencor 30 年前的产品还在销售中。
与非网原创文章,未经许可,谢绝转载!