Cadence与Tessera合作优化22nm光刻照明技术

Cadence和Tessera昨天宣布双方将合作开发一项新的计算光刻技术，旨在解决22nm节点问题。

与前不久IBM和Mentor的宣布一样，Cadence-Tessera方案也在这一节点放弃采用极紫外光刻，改用更全面完善的OPC(光学邻近校正)和PPC(工艺邻近校正)技术，并对步进机中照明模式进行优化。

不过，IBM-Mentor技术侧重于模式优化，对可配置照明阵列只略微涉及。而Cadence-Tessera技术则把重点放在使用步进机光源的衍射掩膜创建定制照明模式上。

http://www.edn.com/index.asp?layout=article&articleid=CA6603355