与非网 9 月 4 日讯,日本材料出口限制又逼韩国高等科学技术研究院拿出新技术,从光刻胶电极材料,看来韩国这次是铁了心要自己搞半导体材料了。

 

韩国高等科学技术研究院(KAIST)于 9 月 4 日宣布将于 9 月 17 日在首尔召开一次关于材料和部件技术转让的会议,以应对日本的出口限制。

 

具体而言,KAIST 将在会议上展示四种新技术,这些技术可以取代受出口限制影响的日本技术。它们由透明的氟化聚酰亚胺和低热膨胀组成(由化学系的 Kim Sang-yul 教授开发),非破坏性电磁性能测试系统(由航空航天工程系 Lee Jung-ryul 教授开发),用于先进二次电池的纳米技术电极材料(由材料科学与工程系 Kim Do-kyung 教授开发)和高分辨率光刻胶(由化学系名誉教授 Kim Jin-baek 开发) 。

 

此外,KAIST 将披露与人工智能,材料和组件相关的五项专利技术,以便将这些技术转让给公司,并在促进产学合作的基础上提高竞争力。


计划邀请 200 多位企业家和投资者参加会议,讨论技术转让和相互合作的问题。领导这些技术发展的九位 KAIST 教授也将参加此次会议。这里将描述这些技术的细节,然后是技术转让咨询会议。

 

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