与非网 11 月 6 日讯,据报道,正在进行的第三届进博会上,光刻机巨头 ASML 也参展了,并且还在自己的展台上晒出展示了 DUV 光刻机。

 

据悉,ASML 之所以没有展示新的 EUV 光刻机,主要是因为他们目前仍不能向中国出口 EUV 光刻机,而此次展示的 DUV 光刻机可生产 7nm 及以上制程芯片。

 

ASML 此次也带来了其整体光刻解决方案,包括先进控制能力的光刻机台计算光刻和测量通过建模、仿真、分析等技术,让边缘定位精度不断提高。

 

Roger Dassen 指出,ASML 了解美国当局目前的规章制度及其解释,当然也知道这些与特定的中国客户密切相关,但如果广泛的来理解其规章制度对 ASML 的总体含义(对于特定的中国客户),则意味着 ASML 将能够从荷兰向这些中国客户提供 DUV 光刻系统,且无需出口许可证。

 

美国仅仅是限制了美国不能给中国出口芯片、光刻机等,但并没有限制其他国家对中国进口,荷兰并不在美国的禁令范围内。

 

目前的光刻机主要分为 EUV 光刻机和 DUV 光刻机。DUV 光刻机,分为干分式与液浸式两种。其中,液浸式于 ASML 手中诞生,其波长虽然有 193nm,但等效为 134nm,经过多重曝光后,液浸式光刻机也能够达到 7nm 工艺。但是,每多一次曝光都会使得制造成本大大提升,而且良品率也难以控制。

 

EUV 光刻机采用 13.5nm 波长的光源,是突破 10nm 芯片制程节点必不可少的工具。也就是说,就算 DUV(深紫外线)光刻机能从尼康、佳能那里找到替代,但如果没有 ASML 的 EUV 光刻机,芯片巨头台积电、三星、Intel 的 5nm 产线就无法投产。

 

在这之前,ASML CFO Roger Dassen 在财报会议的视频采访中谈到了与中芯国际等中国客户的业务情况,其表示一些情况下,出口光刻机是不需要许可证的。