与非网 12 月 30 日讯,在目前光刻机市场上,来自荷兰的光刻机设备制造商 ASML,是唯一一家能够生产极紫外光刻的企业。据悉,ASML 在推出 TWINSCAN NXE:3400B 和 NXE:3400C 这两款极紫外光刻机之后,他们还在研发更先进、效率更高的极紫外光刻机。

 

据了解,在 10 月 14 日发布的三季度财报中,ASML 披露了他们新一代的极紫外光刻机 TWINSCAN NXE:3600D,计划在 2021 年年中开始出货,生产效率较目前的产品提升 18%。

 

而从外媒的报道来看,除了 NXE:3600D,ASML 还在研发高数值孔径的极紫外光刻机 NXE:5000 系列,设计已经基本完成。

 

外媒在报道中也表示,虽然 ASMLNXE:5000 高数值孔径极紫外光刻机的设计已基本完成,但商用还需时日,预计在 2022 年开始商用。

 

相比目前正在被台积电广泛使用的 EUV 光刻机,新设备在技术上将再次迎来突破,将帮助芯片制造商继续缩小工艺规模,提高芯片光刻效率和成功率,节约成本。

 

作为一款高数值孔径的极紫外光刻机,NXE:5000 系列的数值孔径,将提高到 0.55,ASML 目前已推出的 TWINSCAN NXE:3400B 和 NXE:3400C 这两款极紫外光刻机,数值孔径为 0.33。

 

在不久前举办的线上活动中,欧洲微电子研究中心 IMEC 首席执行官兼总裁 Luc Van den hove 在线上演讲中表示,在与 ASML 公司的合作下,更加先进的光刻机已经取得了进展。

 

Luc Van den hove 表示,IMEC 的目标是将下一代高分辨率 EUV 光刻技术高 NA EUV 光刻技术商业化。由于此前得光刻机竞争对手早已经陆续退出市场,目前 ASML 把握着全球主要的先进光刻机产能,近年来,IMEC 一直在与 ASML 研究新的 EUV 光刻机,目前目标是将工艺规模缩小到 1nm 及以下。