CINNO Research产业资讯,5月27日,三井化学宣布,将在2023年7月前完成收购旭化成半导体和LCD制造工艺中光掩模用保护膜业务。随着全球对半导体需求的增加,造成了对制造过程中周边相关材料的使用需求也在不断增长。三井化学旨在通过收购该业务从而抓住强劲的市场需求来加强其现有薄膜业务。

 

 

据日本经济新闻报道,本次收购价格将根据最终协议进行调整后确定。即三井化学将根据与旭化成商定的74亿日元(约人民币3.83亿元)薄膜业务价格为基础进行调整。

 

从旭化成收购薄膜材料业务

 

此次转让包括旭化成在日本、韩国、北美和中国制造、开发和销售光掩模薄膜业务,以及受委托制造光掩模薄膜的Asahi Kasei的合并子公司Asahi Kasei EMS Co., Ltd. 的所有股份(业务),生效日期为2023年7月1日(预定)。

 

收购该业务后,三井化学将在日本国内拥有两个薄膜生产基地:岩国大竹工厂(山口县和木町)和目前的旭化成延冈工厂(宫崎县延冈市)。

 

三井化学目前参与了用于半导体的小型薄膜业务。从旭化成那里,三井化学将在半导体业务的基础上收购用于LCD的大型薄膜业务。除了强化LCD等阵容外,通过业务规模的扩大将继续推动新产品开发能力的提高。

 

旭化成退出薄膜业务之后,将把重点放在全球市场上占有很大份额的半导体制造用光敏树脂材料上。

 

 

光掩模

 

光掩模,也叫半导体光罩,是半导体光刻工艺中的高精密工具,主要由基板和不透光材料组成,起到光刻机与大硅片的桥梁和纽带作用。

 

从规模看,光掩膜仅约占芯片总成本的13%,其价值远低于占比38%的硅片,关注度更是与硅片相去甚远。但小小的光掩膜价值却非比寻常,它不仅是芯片制造中必不可少的核心材料之一,其质量的好坏更是直接决定芯片最终的性能。

 

全球领先的光掩模制造商的总部也大多设在日本。据CSET预计,日本企业控制了53%的商业光掩模市场,美国企业占比40%,台湾企业占比7%。比如DNP、日本凸版印刷Toppan Photomasks两家大厂都是日本厂商。