据国外媒体报道,三星电子表示,已经开始在华城工厂建设一条新的半导体生产线,该生产线将生产 7 纳米或更小的芯片。

 
三星将投资 60 亿美元到 2019 年完成的生产线上,并在 2020 年开始运营。三星公司将在开始运营时根据市场情况投入更多资金。
 
该公司表示,该工厂将安装极紫外(EUV)光刻设备,这将有助于三星在超大规模集成方面保持技术领先地位。
 
与目前使用的 ArF 灯相比,EUV 灯具有更短的波长,并且将允许绘制尺寸小于 10 纳米的芯片所需的更精确和更详细的电路。
 
该公司将致力于满足手机,服务器,网络和 HPC 以及合同芯片制造客户对高性能半导体的需求。
 
三星的华城工厂与 Giheung 和 Pyeongtaek 的其他厂商一起,在韩国形成了“半导体集群”。它在德克萨斯州奥斯汀和中国西安也有工厂。
 
该公司正在与美国芯片巨头高通公司合作开发一款采用 7 纳米制程的 5G 移动芯片组。去年 10 月,三星开发了 8 纳米工艺。
 
去年三星在半导体产品线上的投资超过 260 亿美元,这是有史以来的最高纪录,这是由于内存芯片需求的增长。