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采用化学气相沉积法(CVD)在熔渗工艺制备的SiC

作者:刘虎/齐哲/艾莹珺/周怡然/杨金华/赵文青/赵春玲/郎旭东/贺宜红/焦健
刊名:工程科技Ⅰ辑

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