根据芯思想研究院(ChipInsights)的数据表明,2019 年全球半导体、面板、LED 用光刻机出货约 550 台,较 2018 年减少 50 台。其中半导体前道制造用光刻机出货约 360 台;半导体封装、面板、LED 用光刻机出货约 190 台。
 
一、前道用光刻机情况
2019 年 ASML、Nikon、Canon 三巨头半导体用光刻机出货 359 台,较 2018 年的 374 台减少 15 台,跌幅为 4%。

 

 

从 EUV、ArFi、ArF 机型的出货来看,全年共出货 154 台。其中 ASML 出货 130 台,占有 84%的市场,较 2018 年下降 6 个百分点。

 

 

EUV 方面还是 ASML 独占鳌头,市占率 100%;ArFi 方面 ASML 市占率高达 88%;ArF 方面 ASML 占有 63%的市场份额;KrF 方面 ASML 也是占据 63%的市场份额;在 i 线方面 ASML 也拿下了该拿的份额。

 

从总营收来看,2019 年 ASML、Nikon、Canon 三巨头光刻机总营收 954 亿元人民币,较 2018 年小幅增长。从营收占比来看,ASML 占据 74%的份额。虽然 2019 年光刻机出货数量有所下滑,但高端机台 EUV、ArFi、ArF 的出货量增加,也使得总体营收微幅增长。 

 

ASML 
2019 年 ASML 光刻机营收达 704 亿元人民币,较 2018 年成长 9%,增幅明显收窄(2018 年较 2017 年成长 36%)。
 
2019 年 ASML 共出货 229 台光刻机,较 2018 年 224 年增加 5 台,增长 2.23%。其中 EUV 光刻机出货 26 台,较 2018 年增加 8 台;ArFi 光刻机出货 82 台,较 2018 年减少 4 台;ArF 光刻机出货 22 台,较 2018 年增加 6 台;KrF 光刻机出货 65 台,较 2018 年减少 13 台;i-line 光刻机出货 34 台,较 2018 年增加 8 台。
 
2019 年 ASML 的 EUV 光刻机营收达 217 亿元人民币,较 2018 年增加 70 亿元人民币。2019 年单台 EUV 平均售价超过 8 亿元人民币,较 2018 年单台平均售价增长 3%。
 
值得注意的是,2019 年第三季度,ASML 开始出货 NXE:3400C,这是最新型的 EUV 光刻机,吞吐量达 175wph(300 毫米晶圆)。NXE:3400C 目前累计出货 9 台,估算单价接近 10 亿元人民币。
 
2019 年中国 FAB 建设高潮,多个 FAB 搬入设备,其中搬入 ASML 光刻机的有中芯南方基地、华虹无锡 FAB7、粤芯半导体等。
 
Nikon 
2019 年,Nikon 光刻机业务营收约 156 亿元人民币,较 2018 年下滑 5.4%。
 
2019 年,Nikon 半导体用光刻机出货 46 台,较 2018 年增加 10 台。其中 ArFi 光刻机出货 11 台,较 2018 年度增加 6 台;ArF 光刻机出货 13 台,较 2017 年度增加 4 台;KrF 光刻机出货 4 台,较 2017 年度减少 1 台;i-line 光刻机出货 18 台,较 2017 年度增加 1 台。
 
2019 年度,Nikon 半导体用光刻机出货 46 台中,其中全新机台出货 28 台,翻新机台出货 18 台。
 
Canon
2019 年,Canon 光刻机营收约为 94 亿元人民币,较 2018 年下降 21.3%。
 
2019 年,Canon 半导体用光刻机出货达 84 台,较 2018 年出货量 114 台,减少 30 台,下滑 26.3%;全部 i-line、KrF 两个低端机台出货。
 
2019 年 12 月,Canon 宣布推出 FPA-3030iWa 型光刻机,预计 2020 年 2 月下旬发售。该机型采用的投影透镜具有 52 毫米 x52 毫米的广角,NA 可从 0.16 到 0.24 范围内可调。新设备可以在 2 英寸到 8 英寸之间自由选择晶圆尺寸的处理系统,方便支持各种化合物半导体晶圆,可运用在预计未来需求增长的汽车功率器件、5G 相关的通信器件、IoT 相关器件(如 MEMS 和传感器等)的制造工艺中。
 
二、面板、封装、LED 用光刻机情况 
Nikon 

2019 年,Nikon 面板(FPD)用光刻机出货 40 台,较 2018 年减少 33 台。2019 年,Nikon 面板用光刻机虽然出货减少 33 台,但我们也看到其 10.5 代线用光刻机出货量增长不错,从 2018 年出货 14 台增长到 2019 年的 22 台,爆增 60%。
 
Canon
2019 年,Canon 面板(FPD)用光刻机出货 50 台,较 2018 年出货量 69 台,减少 19 台,下滑 27.5%。 
 
上海微电子 SMEE
上海微电子装备(集团)股份有限公司光刻机主要用于广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD、MEMS、LED、功率器件等制造领域,2019 年出货预估在 50+台,和 2018 年基本持平,主要集中在先进封装、LED 方面,在 FPD 领域也有出货。
 
SUSS

德国 SUSS 光刻机主要用于半导体集成电路先进封装、MEMS、LED,2019 年光刻机收入约 7 亿元人民币,和 2018 年几乎持平。
 
VEECO
2017 年 Veeco 收购 Ultratech,增加了光刻市场的收入,主要是来自先进封装和 LED 领域,销售客户包括先进封装、晶圆制造、LED 生产商。2019 年公司来自先进封装和 LED 用光刻机的营收约为 3 亿元人民币,预估销售台数在 20 台以内。
 
EVG
公司的光刻设备主要应用于先进封装、面板等行业,当然公司也出售对准仪等。
 
三、EUV 进展

从 2018 年以来,公司一直在加速 EUV 技术导入量产;二是实验以 0.55 NA 取代目前的 0.33 NA,具有更高 NA 的 EUV 微影系统能将 EUV 光源投射到较大角度的晶圆,从而提高分辨率,并且实现更小的特征尺寸。
 
2019 年第三季度,ASML 已经出货 EUV 新机型 NXE:3400C,每小时吞吐量为 175 片,完全满足 7 纳米和 5 纳米工艺。
 
预估 2021 年将推出 0.55 NA 的新机型 EXE:5000 样机,可用于 2 纳米生产,按照之前的情况推测,真正量产机型出货可能要等到 2024 年。当然 0.55 NA 镜头的研发进度也会影响新机型的出货时间。
 
2019 年 ASML 全年出货 26 台 EUV 光刻机,还是因为产能有限所致。
 
DRAM 公司将在 2020 年底搬入 EUV 光刻机,表示着 EUV 将进入存储器产线,这将对 ASML 的未来产量提出更多挑战。