4 月 11 日,FinFET 发明人胡正明在台湾交大所举办的智能半导体产学联盟论坛中,从学术界及实务界探讨了半导体未来。

胡正明除了中研院院士,陆续接受中外五个学术单位院士头衔,且曾在张忠谋邀请下,于 2001 年自美返台任台积电首任技术长,协助台积电打下包括把鳍式晶体管制程基础,突破摩尔定律极限。

 


胡正明回忆,在台积电担任 CTO 时,就从政府分配替代役方案中知道台积电很受「歧视」,认为台积电只是个代工厂;他更直言,若未来摩尔定律终止了,台积电是不是更不被支持了?

但数字会说话,全球半导体产值不断创高,2017 年更首度超越 4000 亿美元,胡正明以世界经济成长率的线图与半导体业过去 30 年来的成长线图做比对,从 1995 年起,半导体经历过去年成长 17%的美好年代,但是 1995 年后, 虽然没有过去成长幅度大,但速度都没有慢下来,年成长仍维持 4.5%。

胡正明举出当年自己突破摩尔定律经验,1999 年时摩尔定律就不被看好,业界担心把晶体管做小就没办法关闭,但隔(2010)年就做出来,也就是 FinFET-鳍型晶体管。

胡正明发明了鳍型晶体管(FinFET)以及「完全空乏型晶体管」(FD-SOI),两大革命性创新为半导体带来新契机。 2011 年 5 月英特尔宣布使用 FinFET 技术,包括台积电、三星、苹果也都陆续采用 FinFET,胡正明等于开创了摩尔定律被唱衰后的新契机。

胡正明过去就主张,只要能创造附加价值、创造高薪工作机会,就是好的产业,他认为,在发展极致工艺过程中价格会变高,因此,半导体的成长要再持续 100 年「当然可能」,即使摩尔定律终止,半导体仍是好的产业。