CINNO Research 产业资讯,由于 2019 年半导体市场的低迷,光刻胶市场也呈现了负增长;虽然 2020 年有新冠肺炎的影响,但预计会再次增长。

 

根据日媒 News.Mynavi 报道,据美国电子材料市场调查公司 TECHCET 调查显示,受到半导体市场低迷的影响,2019 光刻胶、辅助材料的全球市场出现了负增长;2020 年虽然有新冠肺炎的影响,但预测会转为正增长。


据预测,主要的 G-Line/I-Line、DUV 光刻胶的 2020 年的市场规模继 2018 年之后,会再次超过 16 亿美元(约人民币 112 亿元)。另一方面,EUV 光刻胶的市场规模在 2020 年超过 1,000 万美元(约人民币 7,000 万元),到 2023 年年平均增长率预计达到 50%以上,但是从当前的 EUV 光蚀刻胶的整体市场来看,EUV 光刻胶的占比不足 1%。

 


TECHCET 的分析师 Ed Korczynski 先生表示说,“长年以来,极紫外光刻技术(EUV Lithography)的导入一直被延误,如今终于要被 7nm 工艺以下的 IC 生产采用了。继 TSMC、Samsung Electronics 之后,Intel 计划在 2023 年把 EUV 运用到最尖端的逻辑半导体生产中。SK Hynix 也已经开始讨论把 EUV 运用到尖端 DRAM 的生产中”。未来,随着 EUV 需求的增长,而且有迹象表明 EUV 技术也将被用于量产,EUV 特殊蚀刻胶供应商 Inperia 在 2020 年 2 月份收到了来自光刻胶厂家、使用 EUV 的半导体厂家等的总额 3,100 万美元(约人民币 2.17 亿元)的投资。


据说,荷兰的 EUV 曝光设备公司——ASML 在 2019 年销售了 203 台 DUV Stepper(深紫外光曝光机),26 台 EUV Lithography 设备(极紫外光曝光设备)。ASML 保留 2020 年 30 台 EUV 曝光设备“NXE:3400 系列”的产能,2021 年开始计划每年出货 40-45 台。

 

 

 

按照曝光光源来区分,半导体光刻胶(Photo-resist)市场规模。(单位:百万美元)(图片出自:TECHCET)