与非网 11 月 17 日讯,据韩国媒体 BusinessKorea 报道,韩国本土企业在 EUV 光刻技术方面取得了极大进展,但并没有提到是哪一家企业,合理推测应指代韩国整个半导体光刻产业。

 

此外,韩媒还提到了韩国 EUV 专利数量,据韩国知识产权局(KIPO)发布的《近 10 年(2011-2020 年)专利申请报告》显示,2019 年,韩国提交的专利申请数量为 40 件,超过了国外企业的 10 件。这是韩国提交的专利申请量首次超过国外企业。到 2020 年,韩国提交的专利申请也将是国外企业申请的两倍以上。

 

专利申请将很快成为计划在将来进一步开发 EUV 技术和产品的韩国公司的强大工具。报告还显示,只有六家主要公司占专利申请总量的 59%以上。其中包括卡尔·蔡司(18%),三星电子(15%),ASML(11%),S&S Tech(8%),TSMC(6%)和 SK Hynix(1%)。

 

如果按照详细的技术项目来划分,处理技术(process technology)的专利申请量占 32%;曝光设备技术(exposure device technology)的专利申请量占 31%;膜技术(mask technology)占比为 28%,其他为 9%。

 

在工艺技术领域,三星电子占 39%,台积电占 15%,这意味着两家公司占 54%。在膜领域,S&S Tech 占 28%,Hoya(日本)占 15%,Hanyang University(韩国)占 10%,Asahi Glass(日本)占 10%,三星电子占 9%。

 

了解到,EUV 光刻技术是多种先进技术的总称,具体包括多层反射镜,多层掩模,防护膜,光源等。作为高端芯片生产流程的重要技术组成,EUV 光刻技术的研发是一块十分“难啃的骨头”,其具体的技术高度和复杂程度,在业内甚至有超过研发“原子弹”的说法。

 

在过去十年里,包括三星电子在内的全球公司进行了深入的研究和开发,以确保技术领先。最近,代工公司开始使用 5 纳米 EUV 光刻技术来生产智能手机的应用处理器(AP)。