多重曝光中的颜色优化注意事项
[摘要]

在先进工艺节点中,要实现最佳性能和良率,需要超越设计规则的最低要求来优化版图。任何多重曝光版图都有多种能通过多重曝光设计规则检查 (DRC) 的着色配置。但是,选择最佳着色方案可以提高制造良率和设计性能裕量。了解 Calibre Multi-Patterning 自动着色解决方案及其内置的分析功能如何大幅简化选择最佳着色方案的工作,无论版图如何复杂。

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所属分类:技术方案
上传时间:2018/09/06
Mentor Graphics公司简介
  • Mentor Graphics 是电子设计自动化技术的领导产商,它提供完整的软件和硬件设计解决方案,让客户能在短时间内,以最低的成本,在市场上推出功能强大的电子产品。当今电路板与半导体元件变得更加复杂,并随着深亚微米工艺技术在系统单芯片设计深入应用,要把一个具有创意的想法转换成市场上的产品,其中的困难度已大幅增加;为此 Mentor提供了技术创新的产品与完整解决方案,让工程师得以克服他们所面临的设计挑战。
  • Mentor Graphics近日宣布推出第一阶段的最新系统设计企业平台,以应对印刷电路板(PCB)系统所面临的设计复杂度提升、员工人力结构改变以及系统感知设计需求等挑战。第一阶段推出的新产品Xpedition PCB布局技术。此新平台是专为加速采用部署新技术所设计的。