有关 High-Level Synthesis (HLS) 的 NVIDIA 案例分析
上传时间:2018/11/22 资源大小:1.08MB
[摘要] 通过采用应用Mentor Graphics Catapult®的C++ High-Level Synthesis (HLS)流程,NVIDIA®能够将代码简化5倍,将回归测试所需的CPU数量减少1000倍,并且运行多达
驯服猛兽:低功耗设计和验证中的调试挑战
上传时间:2018/03/06 资源大小:1.27MB
[摘要] 在芯片开发过程中,调试就要耗费50%左右的开发时间和精力,这是一个不争的事实。调试被认为是半导体芯片设计与验证行业面临的最棘手挑战之一。本文将全面分析低功耗设计和验证面临的各种复杂调试问题。我们将借助相关示例来说明如何避免或轻松解决这
将图形匹配与 DFM 属性进行集成,从而改善和优化版图
上传时间:2018/09/06 资源大小:2.86MB
[摘要] 随着设计复杂性和规模的不断增长,特别是在最先进的节点上,图形匹配的使用已扩展到 DFM 流程中。将 Calibre Pattern Matching 功能与 DFM 操作相结合,可以给新设计带来各种不同的改善和优化选择,包括填充方向、
在物理验证过程中实现最佳性能
上传时间:2018/09/06 资源大小:2.45MB
[摘要] 物理验证的生产率是一个多维度目标,需要应用多种策略和技术来实践。IC 设计公司必须不断评估其工艺流程、数据管理和硬件使用情况,包括与 EDA 供应商密切合作以确保实现准确、完整、先进的工具覆盖率,并整合新的技术功能来扩展硬件能力和改善
多重曝光中的颜色优化注意事项
上传时间:2018/09/06 资源大小:1.7MB
[摘要] 在先进工艺节点中,要实现最佳性能和良率,需要超越设计规则的最低要求来优化版图。任何多重曝光版图都有多种能通过多重曝光设计规则检查 (DRC) 的着色配置。但是,选择最佳着色方案可以提高制造良率和设计性能裕量。了解 Calibre Mu
Mentor Graphics公司简介
  • Mentor Graphics 是电子设计自动化技术的领导产商,它提供完整的软件和硬件设计解决方案,让客户能在短时间内,以最低的成本,在市场上推出功能强大的电子产品。当今电路板与半导体元件变得更加复杂,并随着深亚微米工艺技术在系统单芯片设计深入应用,要把一个具有创意的想法转换成市场上的产品,其中的困难度已大幅增加;为此 Mentor提供了技术创新的产品与完整解决方案,让工程师得以克服他们所面临的设计挑战。
  • Mentor Graphics近日宣布推出第一阶段的最新系统设计企业平台,以应对印刷电路板(PCB)系统所面临的设计复杂度提升、员工人力结构改变以及系统感知设计需求等挑战。第一阶段推出的新产品Xpedition PCB布局技术。此新平台是专为加速采用部署新技术所设计的。