多重曝光中的颜色优化注意事项
上传时间:2018/09/06 资源大小:1.7MB
[摘要] 在先进工艺节点中,要实现最佳性能和良率,需要超越设计规则的最低要求来优化版图。任何多重曝光版图都有多种能通过多重曝光设计规则检查 (DRC) 的着色配置。但是,选择最佳着色方案可以提高制造良率和设计性能裕量。了解 Calibre Mu
并非所有硬件加速器的设计思路都是一样的
上传时间:2018/08/30 资源大小:1.21MB
[摘要] 并非所有硬件加速器的设计思路都是一样的。主流硬件加速仿真供应商提供了三种不同的硬件加速仿真技术、架构和实现,这也增加了进行“一对一”比较的难度。 本电子设计文章将帮助您深入了解速度、吞吐量和延迟这三种衡
利用硬件加速仿真实现存储市场创新
上传时间:2017/12/15 资源大小:2.95MB
[摘要] 云计算如火如荼,数据中心在全球各地如雨后春笋般涌现,固态硬盘 (SSD) 作为此类及其他存储应用的核心设备,也正在迅速发展。复杂的控制器是这种硬盘的一个主要元器件,其必须执行各种各样的任务以便准确可靠地接收、监控和传输数据。为确保以最
Luceda Photonics 利用 Tanner L-Edit 提供硅光子 IC 解决方案
上传时间:2018/05/02 资源大小:2.63MB
[摘要] 由于光子 IC 设计人员需要全面掌控其设计框架以确保制造的 IC 与其设计完全一致,并且需要克服光子电路挑战,Luceda Photonics 为此创建了 IPKISS.eda 设计框架。此框架建立在 Tanner L-Edit 版图
利用独特的版图编辑和验证功能,化解 MEMS 设计挑战 — 第 1 部分
上传时间:2018/05/02 资源大小:3MB
[摘要] MEMS 版图与 IC 版图之间的一大区别在于是否能使用独特的不规则形状。在传统的 CMOS IC 设计中,版图形状通常是曼哈顿样式(例如矩形和直角多边形)或具有用于布线的 45 度边的多边形;而 MEMS 设计则与之不同,其可广泛应
Mentor Graphics公司简介
  • Mentor Graphics 是电子设计自动化技术的领导产商,它提供完整的软件和硬件设计解决方案,让客户能在短时间内,以最低的成本,在市场上推出功能强大的电子产品。当今电路板与半导体元件变得更加复杂,并随着深亚微米工艺技术在系统单芯片设计深入应用,要把一个具有创意的想法转换成市场上的产品,其中的困难度已大幅增加;为此 Mentor提供了技术创新的产品与完整解决方案,让工程师得以克服他们所面临的设计挑战。
  • Mentor Graphics近日宣布推出第一阶段的最新系统设计企业平台,以应对印刷电路板(PCB)系统所面临的设计复杂度提升、员工人力结构改变以及系统感知设计需求等挑战。第一阶段推出的新产品Xpedition PCB布局技术。此新平台是专为加速采用部署新技术所设计的。