自对齐多重曝光轨道分解技术

2022/05/24 作者：Siemens DISW

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自对齐多重曝光轨道分解技术

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一旦决定使用特定的 SAMP 工艺，设计人员就必须确定最佳版图分解，以生成所需的掩膜版，同时遵守所有相关的设计规则。IMEC 和 Siemens Digital Industries Software 共同介绍了生成符合 DRC 要求的轨道（线条）掩膜版的分解要求和技术。Calibre 多重曝光工具不仅可以自动执行分解过程，还能帮助设计人员在绘制的目标形状无法正确生成轨道掩膜版时更快、更准确地调试错误。

公司介绍

德国西门子股份公司（SIEMENS AG）创立于1847年，是全球电子电气工程领域的领先企业。西门子自1872年进入中国，140余年来以创新的技术、卓越的解决方案和产品坚持不懈地对中国的发展提供全面支持，并以出众的品质和令人信赖的可靠性、领先的技术成就、不懈的创新追求，确立了在中国市场的领先地位。

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