一旦决定使用特定的 SAMP 工艺,设计人员就必须确定最佳版图分解,以生成所需的掩膜版,同时遵守所有相关的设计规则。IMEC 和 Siemens Digital Industries Software 共同介绍了生成符合 DRC 要求的轨道(线条)掩膜版的分解要求和技术。Calibre 多重曝光工具不仅可以自动执行分解过程,还能帮助设计人员在绘制的目标形状无法正确生成轨道掩膜版时更快、更准确地调试错误。
扫码加入自对齐多重曝光轨道分解技术
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一旦决定使用特定的 SAMP 工艺,设计人员就必须确定最佳版图分解,以生成所需的掩膜版,同时遵守所有相关的设计规则。IMEC 和 Siemens Digital Industries Software 共同介绍了生成符合 DRC 要求的轨道(线条)掩膜版的分解要求和技术。Calibre 多重曝光工具不仅可以自动执行分解过程,还能帮助设计人员在绘制的目标形状无法正确生成轨道掩膜版时更快、更准确地调试错误。
公司介绍
西门子EDA是全球三大电子设计自动化(EDA)供应商之一,前身为1981年成立的Mentor Graphics,2016年被西门子集团收购后并入数字化工业软件部门,2021年1月正式更改为现名。该公司提供覆盖集成电路设计、验证、制造及封装的全流程工具链,核心产品包括Calibre制造解决方案、Xpedition PCB设计平台、Solido仿真套件及Veloce硬件验证系统。其技术布局涵盖AI加速验证、3D IC集成、汽车电子硅前验证(PAVE360平台)等领域,Calibre nmPlatform、Analog FastSPICE平台获得台积电N3E及N2工艺认证 ,并与台积电扩展战略合作认证多项EDA工具用于N3C、N2P及A16等先进制程。
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