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    • 1.MOS管和场效应管有什么区别?
    • 2.N沟道MOS管工作原理及N沟道MOS管用途!
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MOS管和场效应管有什么区别?N沟道MOS管工作原理及N沟道MOS管用途!

02/03 09:40 作者:eefocus_3880508
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MOS,是MOSFET的缩写。MOSFET金属-氧化物半导体场效应晶体管,简称金氧半场效晶体管(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor, MOSFET)。接下来小编给大家介绍一下MOS管和场效应管有什么区别?以及N沟道MOS管工作原理及N沟道MOS管用途!

1.MOS管和场效应管有什么区别?

1、主题不同

场效应管: V型槽 MOS场效应管。它是继 MOSFET之后新兴的高效功率开关器件。

MOS管:金属-氧化物-半导体场效应管属绝缘栅型。

2、特性不同

场效应管: MOS场效应管不仅继承了输入阻抗高(≥108 W)、驱动电流(约为0.1μ A),而且还具有耐压高(最高可耐压)、工作电流(1.5 A~100 A)、输出功率高(约为108 W)、驱动电流(约0.1μ A)等优良特性。

MOS管:其主要特征是金属栅极和沟道之间有一层二氧化硅绝缘层,因此有很高的输入电阻(最高可达1015Ω)。

3、规则不同

场效应管:功率晶体管的优点集于一身,因此在电压放大器(电压放大倍数达到数千倍)、功率放大器、开关电源逆变器等方面得到了广泛的应用。

MOS管:当 VGS=0时是处于截止状态,再加上正确的 VGS,大部分载体会被吸引到栅极上,从而“加强”这一区域的载体,形成导电沟道。

1、主题不同

场效应管: V型槽 MOS场效应管。它是继 MOSFET之后新兴的高效功率开关器件。

MOS管:金属-氧化物-半导体场效应管属绝缘栅型。

2、特性不同

场效应管: MOS场效应管不仅继承了输入阻抗高(≥108 W)、驱动电流(约为0.1μ A),而且还具有耐压高(最高可耐压)、工作电流(1.5 A~100 A)、输出功率高(约为108 W)、驱动电流(约0.1μ A)等优良特性。

MOS管:其主要特征是金属栅极和沟道之间有一层二氧化硅绝缘层,因此有很高的输入电阻(最高可达1015Ω)。

3、规则不同

场效应管:功率晶体管的优点集于一身,因此在电压放大器(电压放大倍数达到数千倍)、功率放大器、开关电源和逆变器等方面得到了广泛的应用。

MOS管:当 VGS=0时是处于截止状态,再加上正确的 VGS,大部分载体会被吸引到栅极上,从而“加强”这一区域的载体,形成导电沟道。

MOS管和场效应管有什么区别?

2.N沟道MOS管工作原理及N沟道MOS管用途!

NMOS晶体管的工作原理: 在一块掺杂浓度较低的P型硅衬底(提供大量可以动空穴)上,制作两个高掺杂浓度的N区(N区域中有大量为电流流动提供自由电子的电子源),并用金属铝引出两个电极,分别作漏极D和源极S。然后在半导体表面覆盖一层很薄的二氧化硅(SiO2)绝缘层,在漏——源极间的绝缘层上再装上一个铝电极(通常是多晶硅),作为栅极G。在衬底上也引出一个电极B,这就构成了一个N沟道增强型MOS管。MOS管的源极和衬底通常是接在一起的。 NMOS晶体管简介: NMOS英文全称为:NMentalOxideSemiconductor。 意思为N型金属氧化物半导体,而拥有这种结构的晶体管我们称之为NMOS晶体管。 MOS晶体管有P型MOS管和N型MOS管之分。由MOS管构成的集成电路称为MOS集成电路,由NMOS组成的电路就是NMOS集成电路,由PMOS管组成的电路就是PMOS集成电路,由NMOS和PMOS两种管子组成的互补MOS电路,即CMOS电路。 n沟道增强型mos管的输出特性曲线与结型场效应管一样,其输出特性曲线也可分为可变电阻区、饱和区、截止区和击穿区几部分。 转移特性曲线由于场效应管作放大器件使用时是工作在饱和区(恒流区),此时id几乎不随vds而变化,即不同的vds所对应的转移特性曲线几乎是重合的,所以可用vds大于某一数值(vds>vgsvt)后的一条转移特性曲线代替饱和区的所有转移特性曲线. mos管的主要参数与结型场效应管基本相同,只是增强型mos管中不用夹断电压vp ,而用开启电压vt表征管子的特性。 n沟道耗尽型mos管 结构:n沟道耗尽型mos管与n沟道增强型mos管基本相似。 区别:耗尽型mos管在vgs=0时,漏-源极间已有导电沟道产生 增强型mos管要在vgs≥vt时才出现导电沟道。 原因:制造n沟道耗尽型mos管时,在sio2绝缘层中掺入了大量的碱金属正离子na或k(制造p沟道耗尽型mos管时掺入负离子),因此即使vgs=0时,在这些正离子产生的电场作用下,漏-源极间的p型衬底表面也能感应生成n沟道(称为初始沟道),只要加上正向电压vds,就有电流id。 如果加上正的vgs,栅极与n沟道间的电场将在沟道中吸引来更多的电子,沟道加宽,沟道电阻变小,id增大。反之vgs为负时,沟道中感应的电子减少,沟道变窄,沟道电阻变大,id减小。当vgs负向增加到某一数值时,导电沟道消失,id趋于零,管子截止,故称为耗尽型。沟道消失时的栅-源电压称为夹断电压,仍用vp表示。与n沟道结型场效应管相同,n沟道耗尽型mos管的夹断电压vp也为负值,但是,前者只能在vgs<,vp。

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