光刻机

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光刻机(lithography)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

光刻机(lithography)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。收起

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  • stepper光刻机
    光刻机在芯片制造中扮演重要角色,尤其对于小于1μm的线宽,接触式曝光机难以胜任,而步进式光刻机则更为合适。两者主要区别在于工作原理、曝光方式、分辨率、套刻精度、成像倍数和掩模版寿命等方面。国内的上海微、四十五所、稳顶聚芯等公司也在研发步进式光刻机,但目前市场上二手设备较多,且存在质量问题风险。选择国产还是二手设备需要综合考虑性价比和稳定性。
    stepper光刻机
  • 出货79台,光刻机杀疯了!
    ASML 2026年Q1财报显示,净销售额88亿欧元,毛利率53.0%,净利润28亿欧元,出货量79台。AI算力需求爆发,晶圆厂扩大产能,光刻机供不应求。ASML预计全年销售额360-400亿欧元,毛利率51%-53%,并将股息提升至每股7.50欧元。
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    04/23 16:54
  • ASML中国大陆销售占比骤降,最新路线图曝光!
    ASML发布2026年Q1财报,净销售额88亿欧元,同比增长13.24%,净利润28亿欧元,同比增长17.07%。中国大陆净系统销售额占比降至19%,韩国占比升至45%。ASML上调全年营收指引至360亿-400亿欧元,但二季度展望略逊于预期。AI需求刺激存储需求大涨,推动韩国厂商净系统销售额占比飙升。
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    04/16 16:41
  • 疯狂囤光刻机,DRAM双雄在怕什么?
    半导体行业面临激烈竞争,存储芯片大厂SK海力士和三星纷纷大规模采购EUV光刻机,以应对不断增长的内存芯片需求。SK海力士计划在未来两年内新增约30台EUV光刻机,而三星也可能采购20台。此次采购不仅反映了当前存储芯片制造商对高端制造设备的紧迫需求,还预示着AI算力爆发背景下高端内存市场的激烈竞争。
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  • ASML、佳能,攻防暗战
    ASML推出新款i-line光刻机XT:260,生产效率比现有解决方案高出四倍,并计划将其扩展至先进封装市场。佳能则采取保旧和创新策略应对,同时面临尼康的竞争。未来几年,高端市场有望向ASML倾斜,中低端市场仍由佳能和尼康主导。
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