射频溅射

射频溅射是利用射频放电等离子体中的正离子轰击靶材、溅射出靶材原子从而沉积在接地的基板表面的技术。射频溅射： 用交流电源代替直流电源就构成了交流溅射系统， 由于常用的交流电源的频率在射频段（ 5~30MHz ） 所以这种溅射方法称为射频溅射。 射频溅射射频溅射几乎可以用来沉积任何固体材料的薄膜，获得 的薄膜致密、纯度高、与基片附着牢固、建设速率大、 工艺重复性好。常用来沉积各种合金膜、磁性膜以及 其他功能膜。

射频溅射是利用射频放电等离子体中的正离子轰击靶材、溅射出靶材原子从而沉积在接地的基板表面的技术。射频溅射： 用交流电源代替直流电源就构成了交流溅射系统， 由于常用的交流电源的频率在射频段（ 5~30MHz ） 所以这种溅射方法称为射频溅射。 射频溅射射频溅射几乎可以用来沉积任何固体材料的薄膜，获得 的薄膜致密、纯度高、与基片附着牢固、建设速率大、 工艺重复性好。常用来沉积各种合金膜、磁性膜以及 其他功能膜。收起