EUV技术_EUV技术是什么意思

马斯克力挺FEL-EUV技术，TeraFab有望导入？

马斯克可能采用自由电子激光器（FEL）技术路线挑战ASML的LPP-EUV光源方案，颠覆传统EUV光刻技术的垄断格局。FEL-EUV光源具有高功率、高相干性、波长可调谐等优势，综合成本低于LPP-EUV光源。TeraFab晶圆厂若采用FEL-EUV光源，将极大降低EUV光刻机的采购与维护成本。xLight和Inversion Semiconductor是两家领先的FEL-EUV光源系统开发商，其中xLight技术更为成熟，计划2028年商用。马斯克选择FEL-EUV技术的可能性较大，但可能会结合传统EUV光刻机和定制系统。

芯智讯

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08/12 00:57

EUV技术

EUV光刻机的发光原理

EUV光刻采用激光等离子体光源（LPP），通过高速喷射液态锡并用高功率激光将其加热至高温等离子体状态，从而发射出具有极高能量的13.5nm极紫外光。由于该波长的光子能量极高，可以电离几乎所有元素的原子外层电子，因此不能用传统透镜或气体激光方式产生。EUV光刻机的核心光源机制称为激光等离子体光源（LPP），其基本过程包括生成锡微滴、高功率激光轰击锡微滴使其成为高温等离子体，并最终发射出特定能量的13.5nm极紫外光。EUV光无法透过任何物质，所以在真空中运行并通过多层反射镜进行收集和成像。

TOM聊芯片智造

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2025/11/18

EUV光刻机 EUV光刻

EUV新局，巨头们的攻守之道

如今，人工智能芯片的需求正以指数级速度疯涨，可高昂的成本和复杂的工艺，让这项技术沦为少数公司的 “专属”。不过，转机或许很快就会出现。为了给五花八门的人工智能应用 “撑腰”，对先进制程芯片的渴求一路狂飙，这给整个行业的供应能力带来了巨大压力。不管是支撑大型语言模型的超大规模数据中心，还是智能手机、物联网设备、自主系统里的边缘人工智能，前沿半导体在各个应用场景下的需求都在快速增长。但芯片制造严重依赖极紫外光刻（EUV）技术，该技术却成为扩大生产规模的关键阻碍。

半导体产业纵横

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2025/03/24

EUV EUV技术