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SAQP工艺

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SAQP（Self-Aligned Quadruple Patterning）是一种多重图案化技术，旨在克服传统光刻技术在制造小于38纳米特征时的限制。

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    SAQP工艺是一种利用四重间隔层技术（spacer x2）将线距缩小至原尺寸1/4的技术。它主要用于解决ArF光刻机在非EUV时代的分辨率限制，适用于制作更精细的电路线、栅极和金属线。通过多次间隔层沉积、刻蚀和移除步骤，最终实现超窄线距的设计目标。
    1954
    2025/12/08
    SAQP工艺
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