这份由美光科技技术开发副总裁Gurtej S Sandhu博士撰写的报告《The Future of Memory Chip Technology》,共30页,全面阐述了内存技术发展的现状与未来挑战。
芯科技圈解读:
在2025年的今天,我们每天产生2.5 quintillion字节的数据(相当于250万TB),而第一台exascale超级计算机已经实现了每秒百亿亿次(10^18)浮点运算。正如Micron Technology首席研究员Dr. Gurtej S Sandhu在其报告中指出的,人工智能模型复杂度的增长速度已超越摩尔定律8倍,这对内存技术提出了前所未有的挑战。
一、内存技术的现状与挑战
1.1 传统内存的极限
报告揭示了DRAM和NAND面临的物理瓶颈:
DRAM:唯一能在性能、密度和能耗间取得平衡的内存,但缩放ROI(投资回报率)正成为挑战
NAND:唯一能提供低成本/比特的固态存储,但3D NAND缩放同样面临ROI问题
1.2 技术瓶颈具体表现
高深宽比(HAR)蚀刻与间隙填充
接触电阻控制
下一代图案化技术
单元均匀性问题
应力建模挑战
二、AI时代的内存解决方案
2.1 带宽与能效的革命
AI解决方案需要:
更高带宽(>100TB/s)
更低功耗(<10pJ/bit)
近内存计算能力
2.2 领域专用架构(DSA)的崛起
传统CPU性能提升放缓,DSA通过以下方式突破:
显著增加并行度
减少开销
重写算法优化数据流
更高带宽内存支持
三、异构集成与3D封装技术
3.1 晶圆对晶圆(W2W)键合
实现<1μm高密度互连
需要<50nm对准精度(当前设备极限)
控制晶圆形状和平面度(<5nm/100μm)
3.2 集成路线图
1.芯片对晶圆混合键合
2.精细间距TSV(<10μm)
3.完整协同设计的晶圆对晶圆集成
四、新兴存储技术与神经形态计算
4.1 替代存储机制
原子移动:PCM、CBRAM、RRAM、FeRAM等
自旋移动:MRAM、STTRAM、Racetrack等
4.2 内存特性对比
五、未来研发方向
5.1 材料突破
探索新物理机制(非周期表筛选)
二维材料大面积沉积
低漏电(~atto amp)半导体材料
5.2 系统级创新
内存中心的全栈设计框架
近内存/内存计算架构
端到端软硬件协同设计
结语:内存技术的范式转变
报告最后强调,AI应用将驱动计算/内存架构的根本性变革。
1.全面创新堆栈
2.认真考虑内存计算和神经形态计算等替代范式
3.实现功能的异构集成
正如Dr. Sandhu所言:"在材料、设备和电路层面创新的机会,将支持内存设备缩放和新功能的开发。"在数据洪流的时代,内存技术正站在范式转变的十字路口。
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