光刻_光刻是什么意思

佳能，能拉日本半导体设备一把吗？

本文由半导体产业纵横（ID：ICVIEWS）编译自eetime.jp 在日本制造商持续失去前端半导体制造设备市场份额的同时，佳能却蓬勃发展，其纳米压印光刻（NIL）技术有望带来光学光刻工艺的范式转变。 2022年出现了一次特殊的新冠疫情热潮，但这一热潮在2023年结束，迎来了半导体衰退。这导致许多前端工艺设备（包括干蚀刻设备、检测设备和CVD设备）的出货额下降。不过，到了2024年，市场从衰退中复

半导体产业纵横

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08/26 16:44

佳能光刻

薄膜沉积的APF材料在光刻工艺中有什么作用？

光刻工艺作为半导体制造的核心环节，每一个材料与技术细节都关乎芯片的性能与良率。在半导体制造领域，先进图形薄膜(Advanced patterning film，APF）的主要成分是无定型碳，具有较高的刻蚀选择比，在刻蚀过程中替代光刻胶形成图形，充当掩膜层完成刻蚀；它本身可以被氧气氧化，可以同光刻胶一样通过去胶工艺去除。 APF的沉积属于CVD工艺，其沉积原理为：由气体C2H2在Plasma作用下裂

国芯制造

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08/26 11:40

光刻

未来芯片制造将更依赖刻蚀而非光刻？

近期，英特尔一位高管抛出一个颇具争议的观点：未来的晶体管设计（如GAAFET和CFET）可能降低芯片制造对先进光刻设备，特别是ASML的极紫外（EUV）光刻机的依赖。这一论断挑战了当前先进芯片制造领域对EUV技术“不可或缺”的普遍认知，引发了业界的广泛讨论。

全球半导体观察

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06/23 17:37

英特尔光刻

群贤毕至，共襄盛会——IWAPS 2025诚邀投稿！

第九届国际先进光刻技术研讨会（IWAPS 2025） IWAPS 2025 第九届国际先进光刻技术研讨会（IWAPS）将于10月14-15日在深圳隆重举行！本次研讨会由中国集成电路创新联盟、中国光学学会主办，中国科学院微电子研究所、深圳市半导体与集成电路产业联盟（深芯盟）、南京诚芯集成电路技术研究院有限公司联合承办，诚邀全球业界精英共赴这场光刻技术领域的学术盛宴！国际先进光刻技术研讨会（IW

与非网编辑

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06/20 17:03

光电子光刻