光刻_光刻是什么意思

【海翔科技】迪恩士 SCREEN(DNS) 二手涂布显影机 BNE TC2000

一、引言在半导体制造的光刻工艺环节，涂布显影机作为核心配套设备，其工艺稳定性与精度控制能力直接影响光刻图形质量与芯片良率。迪恩士（SCREEN/DNS）作为全球半导体设备领域的重要厂商，凭借在精密制造领域的技术积淀，其推出的BNE TC2000型号涂布显影机，以高适配性与运行可靠性成为成熟半导体制程中的经典机型。海翔科技深耕二手精密半导体设备流通领域，精准筛选并翻新迪恩士SCREEN(DNS)

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19小时前

半导体光刻

【海翔科技】东京电子TEL/TOKYO ELECTRON 二手涂布显影机 CLEAN TRACK

一、引言在半导体制造的光刻工艺环节，涂布显影机作为与光刻机配套的核心设备，直接决定光刻图形精度与产品良率，其性能稳定性与工艺适配性对半导体生产至关重要。东京电子（TEL/TOKYO ELECTRON）作为全球半导体设备领域的领军企业，其CLEAN TRACK系列涂布显影机凭借高精度控制、高可靠性及优秀的洁净工艺设计，在市场中占据重要份额。海翔科技深耕二手精密半导体设备交易领域，所供应的东京电子C

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01/23 09:57

半导体光刻

佳能，能拉日本半导体设备一把吗？

本文由半导体产业纵横（ID：ICVIEWS）编译自eetime.jp 在日本制造商持续失去前端半导体制造设备市场份额的同时，佳能却蓬勃发展，其纳米压印光刻（NIL）技术有望带来光学光刻工艺的范式转变。 2022年出现了一次特殊的新冠疫情热潮，但这一热潮在2023年结束，迎来了半导体衰退。这导致许多前端工艺设备（包括干蚀刻设备、检测设备和CVD设备）的出货额下降。不过，到了2024年，市场从衰退中复

半导体产业纵横

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2025/08/26

佳能光刻

薄膜沉积的APF材料在光刻工艺中有什么作用？

光刻工艺作为半导体制造的核心环节，每一个材料与技术细节都关乎芯片的性能与良率。在半导体制造领域，先进图形薄膜(Advanced patterning film，APF）的主要成分是无定型碳，具有较高的刻蚀选择比，在刻蚀过程中替代光刻胶形成图形，充当掩膜层完成刻蚀；它本身可以被氧气氧化，可以同光刻胶一样通过去胶工艺去除。 APF的沉积属于CVD工艺，其沉积原理为：由气体C2H2在Plasma作用下裂