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常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料

常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料收起

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  • 从参数到布局:HX2803的SOP18封装如何定义新一代电机驱动板?
    电子元件里,封装往往决定了产品的最终形态与应用边界。不谈宏大的技术趋势,而是聚焦于一个具体的产品细节——HX2803高压高电流达林顿晶体管阵列的SOP18封装。 很多人可能会问,市面上已有多种封装的达林顿阵列,为何还要专门讨论一个SOP18?答案很简单:在PCB布局的方寸之间,封装的选择直接关系到系统的稳定性、散热效率以及未来的升级空间。 一、从引脚排列看SOP18的“对称美学” 打开HX2803
  • 【海翔科技】应用材料 AMAT/APPLIED MATERIALS Centura PE CVD 系
    等离子增强化学气相沉积(PE CVD)设备是半导体制造全流程的核心装备,其薄膜沉积质量与工艺兼容性直接决定器件良率与性能。应用材料(AMAT/APPLIED MATERIALS)Centura PE CVD系列设备凭借独特的集群化架构、稳定的等离子体控制能力及全谱系介质膜沉积兼容优势,广泛应用于逻辑芯片、存储芯片及功率器件的介质层、钝化层制备等关键制程。二手设备因显著的成本优势成为中小企业降本增效
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    一、引言 在半导体前道工艺中,多晶硅与氮化硅刻蚀是构建器件栅极、隔离结构的关键环节,刻蚀精度与选择比直接决定器件性能与良率。泛林半导体(Lam Research)4520 XL系列刻蚀设备,作为4420 XL系列的进阶升级机型,在成熟制程刻蚀领域实现了精度控制与量产效率的双重飞跃,凭借新一代等离子体优化技术、更优异的材料刻蚀选择比及增强型扩容量产特性,可精准完成6-8英寸晶圆的多晶硅栅刻蚀、氮化硅
  • SiC渗透率稳步提升,产业将迈向融合普及
    回顾2025年,碳化硅与氮化镓行业在诸多领域斩获亮眼成果,同时历经产业格局的深度调整与迭代。展望2026年,行业正站在新的发展节点,既迎来技术突破与场景扩容的新机遇,也面临产业优化与市场竞争的新挑战。 为解读当前产业态势,明晰未来发展路径,行家说三代半与行家极光奖联合策划了《第三代半导体产业-行家瞭望2026》专题报道。本期嘉宾为瑞能半导体SiC产品线负责人James、京航特碳KA客户总监李雪光。
  • 这家GaN相关企业被合并,年营收近25亿
    最近,又有一家氮化镓企业将被合并,总营收达到了25亿元左右(部分营收为GaN)。 日本制钢所合并子公司推动氮化镓晶体业务发展 1月19日,日本制钢所株式会社(JSW)正式对外宣布,他们将吸收合并其全资子公司日本制钢所机械工程株式会社(M&E) 。 JSW在公告中表示,他们早在 2025年4月14日召开的董事会上,决议推进对全资子公司M&E的合并方针。而在昨天的的董事会上,JSW公司