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ESD协同设计的必要性

12/25 16:33
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芯片的每一次ESD失效,都是协同设计缺失的代价。当传统的“后期修补式”ESD设计已无法满足先进工艺、高速接口和复杂系统的需求,而ESD与内部电路的协同设计可确保性能和成本的最优平衡。
在现代集成电路(IC)设计中,ESD(静电放电)与内部电路的协同设计已成为不可或缺的一环。ESD事件(如人体放电HBM、机器放电MM、充电器件放电CDM)可在极短时间内(纳秒级)产生数千伏高压和数安培大电流,若不加以控制,将导致芯片永久性损坏。

ESD的协同设计

协同设计的核心在于建立高效安全的ESD电流泄放路径,同时确保防护结构不影响内部电路的性能、功耗及功能完整性。它要求工程师在电路架构、器件选型、版图布局等环节同步考虑ESD防护需求,而非后期简单添加保护结构。

协同设计的必要性:

传统的“后期修补式”ESD设计虽在传统工艺中发展较为完善,但在先进工艺尤其3nm以下工艺却存在“致命缺陷”:
1、防护失效:ESD电流流经敏感电路(如栅氧薄层),导致击穿损坏;
2、性能劣化:I/O接口的ESD寄生电容(>1pF)造成高速信号衰减(如112Gbps SerDes眼图闭合);
3、面积浪费:后期修补式ESD设计占用30%以上I/O面积,挤压布线资源;
4、动态干扰:CDM(充电模型)ESD事件中,ns级电压尖峰干扰ADC/RF电路工作。
5、闩锁效应:ESD触发寄生PNP-NPN结构,引发大电流锁存(Latch-up),烧毁芯片;

其相较于传统方法核心优势体现为:

1、可靠性跃升:芯片HBM防护等级从2kV提升至8kV,失效率降低10倍;
2、性能稳定:112Gbps SerDes接口插损<0.5dB,ESD电容控制在0.2pF;
3、面积高效:I/O区域利用率提升40%,7nm芯片节省约0.02mm²/core;
4、系统级防护:解决Chiplet系统中跨die ESD冲击,封装寄生电感影响降低60%。

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