ALD技术_ALD技术是什么意思

类型

新鲜热门

文章

全球ALD设备、前驱体供应商及产品信息汇总（更新版）
常晟源博士生整理并发布了关于ALD工艺在半导体产品中的应用信息，涵盖了设备和耗材供应商及其产品。数据经过多次更新，现提供给行业内外感兴趣的朋友参考，并邀请大家提出意见和纠错。此外，他还提供了近十年的行业数据和大量原创行业景气度分析，以及丰富的线上半导体知识讲座资源。

半导体综研

1039

11/11 11:32

ALD ALD技术
闲聊原子层沉积（ALD）
ALD是一种原子层沉积技术，在芯片制造中用于层层均匀、干净且可控地铺设材料，适用于晶体管栅介质层、存储器、金属衬层等多个应用场景。尽管其速度较慢且昂贵，但由于能够实现极高的精度和一致性，芯片制造商仍然青睐此技术。

老虎说芯

1145

10/21 15:50

ALD ALD技术
ALD工艺在半导体产品中的应用梳理
复旦微电子博士生常晟源带领实习生整理半导体行业数据，特别是ALD工艺的应用梳理，并分享了近十年覆盖八成半导体制造上游供应链的行业数据和大量原创行业景气度分析报告。

半导体综研

814

10/09 14:51

半导体制造 ALD
原子层沉积（ALD, Atomic Layer Deposition）详解
ALD 是一种精确的薄膜沉积技术，其核心原理是利用化学反应的“自限性”，以原子或分子层为单位逐层生长薄膜。具体过程包括：前体吸附：将化学前体（Precursor）引入反应室，前体分子在衬底表面发生吸附，形成单分子层。

老虎说芯

5838

01/15 08:45

ALD ALD技术
ALD,ALE与传统技术相比的优势？
学员问：ALD（原子层沉积），ALE（原子层刻蚀）与传统的沉积，刻蚀技术相比，有什么优势？如上图，先说第一行，第一行是传统镀膜与ALD效果的对比，传统薄膜沉积方法如 PECVD 或 PVD等，在高深宽比结构中，由于气体进出受到了物理限制，侧壁和底部区域的沉积速率不同。

TOM聊芯片智造

2721

2024/12/20

ALD ALD技术

热门作者换一换