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  • 拓芯章·见未来｜拓荆科技SEMICON China 2026新品发布会圆满落幕持续产品多维度创新迭代
    SEMICON China 2026展会首日，国内半导体设备龙头企业拓荆科技（股票代码：688072），在上海新国际博览中心E7馆7301展位隆重举办“拓芯章·见未来”2026新品发布会。 （SEMICON China 2026拓荆科技展台） （拓荆科技副总经理、产品事业部总经理宁建平） 发布会伊始，拓荆科技副总经理、产品事业部总经理宁建平女士登台致辞，她表示，拓荆科技专注于集成电路量产型 PEC
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  • 一文了解原子层沉积(ALD)原理及优势
    原子层沉积（ALD）技术因其独特的自限制反应机制，在半导体薄膜制备中占据重要地位。ALD技术具备纳米级精度厚度控制、优异的均匀性和覆盖能力、低温和良好可扩展性等特点，特别适用于高深宽比结构和多层纳米薄膜堆叠。其工作原理依赖于交替引入前驱体并利用惰性气体清洗，确保每层沉积的均匀性和厚度可控。ALD技术不仅在半导体领域广泛应用，还在光电子、传感器、MEMS和生物医用等多个领域展现出广阔前景。
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  • 全球前道设备供应商统计：CVD、ALD（104家）
    本文介绍了半导体前道设备中的主要类别及其细分类型，并提供了详细的名称解释表。作者还分享了其收集的近十年行业数据，涵盖了半导体制造上游供应链，并提供了丰富的在线半导体知识讲座和服务内容。
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  • 青岛藏着一家半导体核心设备巨头
    近日获悉，青岛思锐智能科技股份有限公司（下称“思锐智能”）完成数亿元C轮融资。本轮融资由国开制造业转型升级基金、中国国有企业结构调整基金联合领投，招银国际、中银资产、光谷金控等多家具有深厚产业背景的知名投资机构共同参与。
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    2025/12/30
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  • 全球ALD设备、前驱体供应商及产品信息汇总（更新版）
    常晟源博士生整理并发布了关于ALD工艺在半导体产品中的应用信息，涵盖了设备和耗材供应商及其产品。数据经过多次更新，现提供给行业内外感兴趣的朋友参考，并邀请大家提出意见和纠错。此外，他还提供了近十年的行业数据和大量原创行业景气度分析，以及丰富的线上半导体知识讲座资源。
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    2025/11/11
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