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  • 28亿一台， 全球首台High-NA EUV光刻机来袭，精度突破0.7nm
    英特尔宣布全球首台商用 High-NA EUV 光刻机安装并通过验收，售价高达 28 亿元人民币。这款光刻机将大幅提高芯片制造的分辨率和套刻精度，有望推动英特尔在先进制程上的突破。尽管面临高昂的成本和技术挑战，英特尔认为这是对未来十年技术发展的关键投资。
    1557
    12/22 13:00
    EUV光刻机 High-NA
    28亿一台， 全球首台High-NA EUV光刻机来袭，精度突破0.7nm
  • 深度丨EUV光刻机巨头风云争夺战
    各大巨头在未来仍将围绕High-NA EUV设备展开激烈竞争，争相导入或宣布市场进展，预示着半导体行业将迎来新一轮技术革新。目前，英特尔、台积电、三星、SK海力士等晶圆制造大厂已纷纷对High-NA EUV光刻机表现出强烈的关注与行动。
    2323
    2024/11/28
    光刻机 EUV光刻机
    深度丨EUV光刻机巨头风云争夺战
  • 近500亿元！EUV光刻机巨头挣翻了
    7月17日，全球最大的光刻设备厂商阿斯麦（ASML）公布2024年第二季度业绩。根据数据，ASML Q2总净销售额 62.43亿欧元（约491亿元人民币），净利润为15.78亿欧元，毛利率 51.5%，第二季度净预订量为55.67亿欧元，其中25亿欧元为EUV预订额。不过相比去年同期的营收69亿欧元、净利润19.4亿欧元，ASML今年第二季度业绩不及当时水平。
    1565
    2024/07/19
    半导体设备 ASML
    近500亿元！EUV光刻机巨头挣翻了
  • High-NA EUV光刻机入场，究竟有多强？
    光刻机一直是半导体领域的一个热门话题。从早期的深紫外光刻机（DUV）起步，其稳定可靠的性能为半导体产业的发展奠定了坚实基础；再到后来的极紫外光刻机（EUV）以其独特的极紫外光源和更短的波长，成功将光刻精度推向了新的高度；再到如今的高数值孔径光刻机（High-NA）正式登上历史舞台，进一步提升了光刻的精度和效率，为制造更小、更精密的芯片提供了可能。
    2409
    2024/03/26
    光刻机 EUV光刻机
    High-NA EUV光刻机入场，究竟有多强？
  • 2nm、1nm全靠它！High-NA EUV光刻机2025年末将正式商用
    3纳米代工市场规模2026年将达到242亿美元，比今年（12亿美元）增加20倍以上。目前，三星电子是唯一一家宣布成功量产3纳米的企业。三星电子、台积电、英特尔等主要半导体企业开始引进EUV设备，随着工程技术的发展，预计3纳米将成为核心先进工艺
    547
    2022/12/10
    EUV光刻机 High-NA
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