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  • High-NA EUV光刻机入场，究竟有多强？
    High-NA EUV光刻机入场，究竟有多强？
    光刻机一直是半导体领域的一个热门话题。从早期的深紫外光刻机（DUV）起步，其稳定可靠的性能为半导体产业的发展奠定了坚实基础；再到后来的极紫外光刻机（EUV）以其独特的极紫外光源和更短的波长，成功将光刻精度推向了新的高度；再到如今的高数值孔径光刻机（High-NA）正式登上历史舞台，进一步提升了光刻的精度和效率，为制造更小、更精密的芯片提供了可能。
    3235
    03/26 09:30
    光刻机 EUV光刻机
  • 2nm、1nm全靠它！High-NA EUV光刻机2025年末将正式商用
    3纳米代工市场规模2026年将达到242亿美元，比今年（12亿美元）增加20倍以上。目前，三星电子是唯一一家宣布成功量产3纳米的企业。三星电子、台积电、英特尔等主要半导体企业开始引进EUV设备，随着工程技术的发展，预计3纳米将成为核心先进工艺
    1787
    2022/12/10
    EUV光刻机 High-NA
  • 下一代EUV光刻机，万事俱备？
    光刻机在半导体领域一向是个热门话题，这个能一次又一次突破工艺极限的设备仿佛一个时光机器，连接着芯片的现在和未来。从ASML宣布将推出下一代光刻机开始，人们的目光就从当前最新一代的0.33 NA光刻系统转移到了下一代0.55NA 光刻系统身上。
    1782
    2022/05/31
    ASML EUV光刻机
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