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芯片制造

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  • 芯片显影后的“鬼魅异常”
    工作继续进行,分享了一个关于芯片光刻车间“鬼魅异常”的问题讨论,涉及多种因素如光学邻近效应、显影不足等,并提出解决方案。
  • Fab-Lite模式如何赋能创新?以“IP矩阵+封测闭环”重塑芯片竞争力
    在半导体这个以技术为尺、以专利为墙的尖端竞技场,一家企业的真正实力,往往不直接显现在产品销量榜单上,而是沉淀在其自主研发的知识产权(IP)库中。“超1000个自主研发IP”的表述,绝非一个简单的数字炫耀,而是一座由十八年光阴与技术热忱浇筑而成的“创新冰山”浮出水面的尖角。这座冰山,构成了华芯邦从电源管理、音频功放,到MEMS传感器等多条产品线生生不息的技术源泉,更是其作为国家级专精特新“小巨人”企
  • 深度解读半导体芯片制造工艺流程(文后附报告)
    《半导体芯片制造工艺流程》报告聚焦于300mm硅片级CMOS半导体制造工艺,涵盖了晶圆制造全流程、十大核心工艺区域及标准化制程管控。报告强调制造环境需严格控制,并详细介绍了晶圆制造的整体流程框架、五大核心动作与十大工艺区域、关键制程如光刻、掺杂、薄膜沉积、刻蚀和CMP等,以及测量与检测的重要性。此外,还提供了制造环境与基础属性、整体制造流程框架、晶圆制造的五大核心动作与十大工艺区域、制程管控的核心工具Traveler与Recipe、CMOS核心制程的核心逻辑与关键步骤等内容。
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  • 2026年中国先进封装与第三代半导体:后摩尔时代的产业突破口
    摘要: 2026年,在全球半导体产业格局深度重构与技术范式加速演进的双重背景下,中国集成电路产业历经多年战略布局与攻坚克难,已步入一个以“体系化自主、结构化突破、生态化繁荣”为特征的新发展阶段。本文旨在基于可获取的公开政策、行业数据、技术趋势及宏观环境分析,系统梳理2026年中国芯片产业的发展现状、核心进展、挑战机遇与未来方向,力求呈现一幅真实、可靠且全面的产业全景图。 一、宏观环境与产业定位:新
  • 韩国芯片出口暴增134%,存储巨头加速扩产背后的真实焦虑
    134%的同比增幅,49.5亿美元的贸易顺差,三星电子、SK海力士股价双双创下历史新高——当这些数字在2月23日同时出现在韩国海关的月度报告上时,外界看到的是半导体产业的烈火烹油。但很少有人注意到,韩国KB证券同期发布的一份数据透露了另一个事实:主要客户的内存芯片需求满足率仅约60%,短缺程度较去年四季度进一步加剧。 这一组对比鲜明的数字,恰恰揭示了当前存储市场的核心矛盾:需求正在以超出预期的速度