光刻机

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光刻机(lithography)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

光刻机(lithography)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。收起

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  • ASML、佳能,攻防暗战
    ASML推出新款i-line光刻机XT:260,生产效率比现有解决方案高出四倍,并计划将其扩展至先进封装市场。佳能则采取保旧和创新策略应对,同时面临尼康的竞争。未来几年,高端市场有望向ASML倾斜,中低端市场仍由佳能和尼康主导。
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  • 最新御三家光刻机出货数据汇总统计(截至2025-Q4)
    全球前三大光刻机供应商——ASML、NIKON和CANON在2025年的出货数据显示,尽管整体出货量略有减少,但高端制程的EUV和ArFi光刻机出货量有所增加,预示着未来产能扩张将继续集中于高端领域。特别是ASML在EUV领域的垄断地位显著,预计2026年出货量将进一步增长。同时,ArF Immersion领域虽仍有竞争,但主要由ASML主导。KrF领域则由ASML和CANON瓜分,出货量下滑但有望反弹。i-line领域受ASML高价位的影响,CANON占据较大市场份额。综合来看,高端光刻机市场的扩展反映了AI算力芯片需求的增长,预计2026年将持续推动产能扩张。
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  • 晶圆厂疯建,光刻机却卖不动了
    全球晶圆厂扩产背景下,光刻机出货总量下降。ASML出货约327台,中国市场贡献最大但仍下滑。尼康和佳能合计出货约318台。中国进口光刻机数量下滑,主要需求集中在DUV光刻机。台积电拥有最多EUV光刻机,三星和Intel紧随其后。High-NA EUV光刻机将成为先进制程竞争的新焦点,预计2027-2028年大规模量产。
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  • 光刻机双工件台龙头,重启IPO
    近日,招商证券股份有限公司向中国证券监督管理委员会北京监管局提交辅导备案报告,正式启动北京华卓精科科技股份有限公司(以下简称“华卓精科”)首次公开发行股票并上市的辅导工作。
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    02/14 12:07
    光刻机双工件台龙头,重启IPO
  • 【海翔科技】尼康 NIKON FX-101S 系列 二手光刻机拆机/整机|支持现场验机测试查证
    一、引言 光刻设备是显示面板制造流程中的核心基石,其性能直接决定产品的分辨率与生产良率。尼康FX-101S系列作为中高端FPD(平板显示器)曝光设备,依托尼康成熟的多镜头投影光学技术与精密定位系统,在中大尺寸显示面板生产领域占据重要地位。随着显示面板产业对中大尺寸产能扩充及成本控制需求的持续提升,尤其在4K超高清电视、高端显示器及车载显示面板产能布局优化的背景下,经过规范翻新与严格检测的二手尼康F