CMP

加入交流群
扫码加入
获取工程师必备礼包
参与热点资讯讨论

CMP(化学机械抛光)

CMP(化学机械抛光)收起

查看更多
  • CMP PE 工程师的工作心得:垫着硅屑往前走的人
    CMP 抛平的不仅是 wafer,更是脾气、情绪和人生的棱角。作为 CMP PE,你需要理解并驾驭复杂的工艺参数,确保生产线的稳定性和产量。尽管日常充满挑战,但每一次解决问题的经历都是积累经验和提升能力的机会。坚持下去,你会成为团队中的宝贵财富。
    444
    12/03 09:29
  • 如何通俗理解晶圆制造CMP工艺
    CMP是半导体制造中的关键工艺,用于平整芯片表面,确保后续工序顺利进行。其主要应用于STI CMP、聚硅栅CMP、ILD CMP、铜互连CMP、W-CMP及新材料CMP等领域。CMP通过化学腐蚀和机械磨除相结合的方式实现表面平整,涉及多个核心部件和技术难点,如划伤、腐蚀、残留等问题。未来发展趋势包括极低压力抛光、无磨粒浆料和新材料选择比浆料的应用,以及AI实时终点控制和机器学习优化参数等。真正的大神需要在这些方面找到完美的平衡。
    如何通俗理解晶圆制造CMP工艺
  • 芯片制造的 “磨皮大师”!CMP核心要素大起底,工艺 + 设备 + 耗材一篇搞懂
    化学机械抛光(CMP)技术是半导体制造中重要的全局平坦化手段,通过化学和物理过程协同实现表面平整化。CMP工艺起源于解决大规模集成电路制造中的平坦化需求,并广泛应用在各种制造环节。CMP工艺的关键在于抛光机、抛光垫、抛光液的选择与调整,其中抛光垫材质多样,各有特点;抛光液成分复杂,需满足多项性能要求。尽管CMP技术在全球范围内得到广泛应用,但在研发方向和市场格局上仍存在挑战,尤其是在抛光液配方和国产化进程方面。
    芯片制造的 “磨皮大师”!CMP核心要素大起底,工艺 + 设备 + 耗材一篇搞懂
  • 半导体,国产替代核心材料全面突围!
    半导体产业的卡脖子问题,说到底,绕不开一个字:材。硅片、光掩膜版、光刻胶、CMP抛光材料——这四大核心材料,就像造房子的水泥、钢筋、玻璃和地基,缺一不可。没有它们,再先进的设计图纸也只能是空中楼阁。 过去很长一段时间,全球半导体材料市场几乎被日本、美国、欧洲巨头牢牢掌控,而中国只能大量依赖进口。近年来,随着中美科技博弈加剧,半导体国产替代按下加速键,这四大材料的突破,正在成为产业链自主化的关键一环
  • CMP抛光垫:半导体与聚氨酯的第一次亲密接触
    在半导体行业,有些东西很“显眼”——比如光刻机、EUV光源、晶圆;它们常常是新闻头条的主角。可你要真走进芯片工厂,会发现有那么一些“幕后小角色”,不张扬,却无处不在。今天我们聊的,就是这样一个角色——CMP抛光垫(Chemical Mechanical Polishing Pad)。 CMP抛光垫是什么? CMP,全称化学机械抛光,是芯片制造中非常重要的一道工艺。顾名思义,就是一边靠化学反应软化材
    CMP抛光垫:半导体与聚氨酯的第一次亲密接触