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与EUV相比,这一光刻技术更具发展潜力
本文主要讨论直写光刻技术,它使用激光直接轰击对象表面,在目标基片上一次形成纳米图案构造,无需制备价格昂贵的掩膜版,生产准备周期较短。目前,该工艺技术已经被广泛应用于PCB、先进封装、FPD(显示面板)和掩膜版制造。
半导体产业纵横
964
2023/06/25
光刻技术
直写光刻设备
先进封装成国产光刻机全新突破口 芯碁微装携WLP-8率先“迎战”
“2022年将是先进封装元年。”巨头持续加码,让这种认知正在成为业界共识。而这片徐徐展开的广阔蓝海,带来的不止是新的机遇,更是新的挑战,而挑战者远远不止是代工厂和封测厂。
与非网编辑
1143
2022/03/14
先进封装
光刻机
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