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光刻技术与我们的生活息息相关,我们用的手机,电脑等各种各样的电子产品,里面的芯片制作离不开光科技束。如今的世界是一个信息社会,各种各样的信息流在世界流动。而光刻技术是保证制造承载信息的载体。在社会上拥有不可替代的作用。
集成电路产业是现代信息社会的基石。集成电路的发明使电子产品成本大幅度降低,尺寸奇迹般减小。以计算机为例,1946年诞生的世界第一台数字计算机重30吨,占地约140平方米。而集成电路将晶体管、电阻、电容等电子元件连接在小块的硅片上,可使计算机体积更小,功耗更低,速度更快。
据韩国媒体BusinessKorea报道,韩国本土企业在EUV光刻技术方面取得了极大进展,但并没有提到是哪一家企业,合理推测应指代韩国整个半导体光刻产业。
如果回到半导体产业初兴的历史现场,我们就会发现没有任何一项关键技术的突破是“必然产生”的。
国际空间站的宇航员利用来自 Astrileux 的有效载荷,在国际空间站的外部平台上进行了光刻实验。
据悉,SK海力士已经开始着手研发1a nm DRAM芯片,预计将会在制程中引入EUV光刻技术。
对于中芯国际而言,最近真是好事连连。
如今的 7nm EUV 芯片,晶体管多大 100 亿个,它们是怎么样安上去的呢?
近几年,EUV 在产业中的存在感与日俱增,三星、台积电、英特尔等都在争先恐后地将 EUV 投入芯片量产。
如今的7nm EUV 芯片,晶体管多大100亿个,它们是怎么样安上去的呢。
先进封装技术已进入大量移动应用市场,但亟需更高端的设备和更低成本的工艺制程。
4月10日记者从武汉光电国家研究中心获悉,该中心甘棕松团队采用二束激光在自研的光刻胶上突破了光束衍射极限的限制,采用远场光学的办法,光刻出最小9纳米线宽的线段,实现了从超分辨成像到超衍射极限光刻制造的重大创新。
伴随集成电路的发展,随之而来的是集成电路光刻技术的发展,光刻技术经历了从最初的接触式光掩模技术起步,到今天的世界最先进光刻技术已经跨越到了7nm。弹指间,技术变革的脚步始终不变,集成电路也进入了掩模新时代。
近期,半导体界掀起了一阵小小的光刻潮,原因就是浸润式光刻技术的开创者林本坚博士获得了2018年未来科学大奖-数学与计算机科学奖,并于近日进行了多次主题演讲,使半导体光刻这项高端而又略显神秘的技术形象地展示在了业界人士面前,也使得越来越多的人对它产生了兴趣,希望能够进一步了解和研讨。
光刻是集成电路最重要的加工工艺,他的作用,如同金工车间中车床的作用。在整个芯片制造工艺中,几乎每个工艺的实施,都离不开光刻的技术。光刻也是制造芯片的最关键技术,他占芯片制造成本的35%以上。
中美贸易战爆发不久,美国就祭出杀招,他们的商务部向全世界宣布对中兴通讯采取出口管制措施,瞬间把这场大战推向了最高潮。
在每年一度的半导体行业战略研讨会(ISS)上,半导体行业的高管们都会讨论半导体技术趋势和全球市场的发展。这篇文章介绍了一位行业观察家在会议上分享的关于EUV光刻技术在不同工艺节点中的技术路径的内容和结论。
中国作为电子产品消费大国,近几年每年进口芯片花费的金额高达2000多万美元,为此国家推出集成电路发展纲要,设立大基金,全力推动集成电路产业的发展。为了加快集成电路产业发展,国内资本想通过并购国外先进半导体企业实现“弯道超车”,一度引起国外的恐慌和质疑,他们认为中国集成电路发展起来会对他们构成威胁和竞争,收购之门随之关闭。
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