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与EUV相比,这一光刻技术更具发展潜力
本文主要讨论直写光刻技术,它使用激光直接轰击对象表面,在目标基片上一次形成纳米图案构造,无需制备价格昂贵的掩膜版,生产准备周期较短。目前,该工艺技术已经被广泛应用于PCB、先进封装、FPD(显示面板)和掩膜版制造。
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