先进制程

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  • 华为这次没说“几纳米”,但芯片圈开始算另一种效率
    这几年手机发布会越来越喜欢说:“首发3纳米”“开启2纳米时代”。仿佛数字越小,芯片就一定越强。过去二十多年,这句话确实成立。 芯片性能不断提升,很大程度上就是因为晶体管越做越小。同样大小的一块芯片,可以塞进更多晶体管,计算能力自然越来越强。 但到今天,这条路开始变难。先进制程越来越昂贵,研发成本越来越高,每向前迈一步,都要投入巨额资金。于是,整个半导体行业都在思考一个问题:如果不能一直把晶体管做得
  • 从45nm到28nm:为什么晶圆清洗突然变成先进制程的核心难题?
    随着半导体制造工艺从45nm向28nm迈进,清洗技术面临前所未有的挑战。主要问题集中在以下几个方面:颗粒控制:纳米级颗粒去除难度大幅增加,物理极限被触发。清洗死角:高深宽比结构导致清洗液难以深入,形成死角。图形坍塌:干燥过程中毛细力破坏精细图形,引发致命问题
  • 垄断三十年:国产气体纯化设备能否跟上先进制程?
    先普科技成立于2004年,专注于半导体行业气体微污染控制解决方案。公司自主研发并量产9N级气体纯化器,打破国外垄断。通过技术创新和市场拓展,先普科技已成为国内领先的气体纯化器制造商,服务于多家知名芯片厂。面对先进制程的需求,先普科技不断提升技术水平,致力于构建完整的气体配套产业链平台。
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  • 先进制程芯片的研发和生产,究竟难在哪里?
    先进制程面临六大挑战:光刻难度大、工艺复杂度高、晶体管结构变化、互连瓶颈、良率和成本压力、系统协同要求。随着技术进步,芯片制造从单纯缩小晶体管转向原子级系统工程,需要综合解决多个方面的问题才能取得突破。
  • 半导体群雄逐鹿:先进制程与先进封装“杀疯”了!
    AI需求激增,半导体行业竞争加剧,先进制程与封装技术成为两大焦点。台积电、英特尔、三星和Rapidus在先进制程上各显神通,台积电领先于其他企业,计划在2029年实现1纳米以下制程量产。封装方面,台积电、英特尔和三星积极布局,台积电推出多种封装技术,英特尔加速玻璃基板商业化,三星则研发多堆叠扇出型封装技术。这些企业在先进制程和封装领域的竞争,将重塑半导体行业的竞争格局。
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