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2nm工艺

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  • 深度丨台积电战略大调整,弃28nm,大扩产
    深度丨台积电战略大调整,弃28nm,大扩产
    根据公开数据显示,台积电在2023年面临了挑战,其产能利用率下降至约80%,同时营收也有所减少。然而,随着2024年的到来,台积电迎来了转机。由于AI芯片需求的迅猛增长,台积电已成功获得了大量订单,并实现了产能的全面利用。
  • 2纳米先进制程已近在咫尺!
    2纳米先进制程已近在咫尺!
    近日,IC设计大厂美满电子(Marvell)宣布与台积电的长期合作关系将扩大至2纳米,并开发业界首见针对加速基础设施优化的2纳米半导体生产平台。目前,行业内最先进的先进制程量产技术是3纳米工艺,由三星电子和台积电制造。随着英特尔拿下ASML的首台光刻机并更新最新代工版图,以及Rapidus与IBM合作日益密切,目前2纳米先进制程的竞争者以明显扩大为台积电、英特尔、三星、Rapidus、Marvell五家。
  • 深度丨2nm的竞争:台积电守,英特尔攻
    深度丨2nm的竞争:台积电守,英特尔攻
    当前,芯片制造技术的竞争愈发白热化。台积电与英特尔这两大巨头在2nm至1nm制程领域争相推出更先进的制程工艺,力求占据市场先机。
  • 2nm战役,台积电开始防守
    2nm战役,台积电开始防守
    如今,芯片制造技术的竞争愈发激烈。台积电与英特尔这两大巨头在2nm到1nm制程领域竞相推出更先进的制程工艺,力图抢占市场先机。
  • 佳能光刻机突破2nm制程?
    佳能光刻机突破2nm制程?
    佳能半导体机器业务部长岩本和德表示,佳能采用纳米压印技术的光刻机有望生产2nm芯片,且成本可以降至传统光刻设备的一半。在岩本和德发声的4天以前,荷兰半导体设备制造商ASML宣布,已向英特尔交付了全球首台High NA(高数值孔径)EUV(极紫外)光刻系统,支持2nm制程及以下工艺的芯片制造。