首先简单来说一下光刻机,光刻机作为半导体行业中重中之重的利器,中科院光电所的胡松、贺晓栋在《中科院之声》发表的一篇文章中这样介绍它的重要性:后工业时代包括现在的工业 3.0、工业 4.0,都以芯片为基础,光刻机作为制造芯片的工具,就相当于工业时代的机床,前工业时代的人手。

 

五代光刻机

 

根据所使用的光源的改进以及工艺的不断创新,光刻机经历了五代产品的发展,其中每次光源的改进都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。

 

 

国产光刻机为何“难产”

 

 

 

尽管中芯国际表示可以不使用光刻机,用自研的“N+1”制程工艺就能够研发出 7nm 工艺(逼得中芯都直接不用光刻机了),但 5nm 乃至更先进制程工艺芯片产品也是离不开光刻机的。

 

据消息称,华为目前所设计的芯片已经正式进入到了 5nm 时代,即将在下半年推出的麒麟 1020 芯片就会采用 5nm 芯片工艺。

 

此外,近期国产光刻机也迎来好消息:上海微电子公司打破封锁,研发出 22nm 光刻机。虽然与国外差距还很大,但这也是我国在光刻机领域的先进水平。

 

相信未来随着国产自主研发的步伐,我们能摆脱对国外厂商的依赖,国产芯片能实现飞速发展。但在未来之前,还有很长一段路要走。