光刻设备_光刻设备是什么意思

挑战ASML！这家美企要用X射线造芯，成本降低90%！

Substrate是一家新兴的光刻设备制造商，开发出一款使用X射线光源的光刻机，有望与荷兰ASML的High NA EUV光刻机竞争。该光刻机成本更低，有望大幅降低尖端制程芯片的制造成本。Substrate计划在美国重建半导体制造能力，对抗中国在半导体领域的崛起。

芯智讯

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11/01 10:25

光刻机光刻设备

光刻辅助设备三件套：涂胶、显影、固化供应商统计

半导体体设备里大家聊得最多的无疑就是光刻机了，现在连出租车司机都知道这个名词了...而光刻工艺里配套的涂胶、显影、烘烤固化设备相对关注的人就少了很多。不过前不久北方华创入股沈阳芯源消息传出，好多人也开始关注和讨论涂胶设备了这个涂胶设备的技术门槛也不低。

半导体综研

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05/07 09:10

涂胶显影设备光刻设备

ASML发布2025年第一季度财报 | 净销售额77亿欧元，净利润24亿欧元

阿斯麦（ASML）发布2025年第一季度财报。2025年第一季度，ASML实现净销售额77亿欧元，毛利率为54%，净利润达24亿欧元。第一季度的新增订单金额为39亿欧元2，其中12亿欧元为EUV光刻机订单。ASML预计2025年第二季度净销售额在72亿至77亿欧元之间，毛利率介于50%至53%3；对2025年展望保持不变，预计全年净销售额在300亿至350亿欧元之间，毛利率介于51%至53%。 (

与非网编辑

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04/16 08:12

ASML EUV

大型科普：多曝工艺究竟是如何超过光刻机的极限分辨率？

这几天隔壁有群友问了我一个非常专业的问题：多曝工艺是什么？它是如何跨过光刻机的极限分辨率实现更小制程的工艺？好问题，毕竟半导体工艺的问题专业是真的专业，真不是普通人能理解的，网上很多理解都是错的。想要了解多曝工艺的问题，首先得了解这个知识点的前置知识，因此今天内容分三段，第一、光刻设备分辨率是怎么来的？第二、晶体管的特征尺寸以及等效工艺的命名方式？第三、多曝工艺是什么，一共有哪几种多曝工艺？？？

启哥有何妙计

1.1万

2024/08/31

光刻机光刻设备