加工费获回暖空间,AI推升高端铜箔争夺
铜价在年末再度加速上行。伦敦金属交易所三个月期铜在12月23日盘中首次站上每吨1.2万美元关口,最高触及约12160美元附近,刷新纪录;2025年迄今累计涨幅约在37%左右,走出自2009年以来最强的年度行情之一。
推动此轮上冲的变量,既有宏观也有产业端共振。
其一,美国可能对铜进口加征关税的预期反复发酵,市场为规避潜在贸易摩擦而提前向美国“搬运”铜资源,非美地区可流通库存承压。
其二,全球矿端扰动与供给偏紧的叙事持续强化。
其三,美联储宽松预期与美元走弱,抬升以美元计价的有色金属整体估值。
供给端的紧张也体现在上游加工环节:Antofagasta与中方冶炼端达成2026年铜精矿年度长单加工费为零的罕见水平,被市场视为矿端偏紧与冶炼端议价受挤压的又一信号。
铜价越涨,锂电铜箔越要“变薄”
在铜箔环节,原料铜价的上行并不只意味着成本抬升,也在倒逼下游用铜强度下降、推动产品结构升级。
诺德最新投资者纪要显示,公司产品定价采用“铜价+加工费”模式,并通过套保与弹性采购缓冲波动。
同时公司强调,铜价飞涨会进一步强化客户向极薄铜箔迭代的动力:以1GWh电池测算,4.5μm相较6μm可减少用铜100多吨、降低用铜成本1000多万元,并带来约7%–8%的能量密度提升。
目前,诺德4.5μm产品已成为主力、占比约70%,主要应用于储能,并已实现3μm极薄铜箔稳定量产。
加工费方面,过去一轮扩产与价格战曾将加工费压到低位甚至侵蚀利润,但随着需求回暖与高端规格渗透率提升,市场信息已出现“底部回升”的表述与案例。
部分上市公司在三季报与投资者互动中提到,订单与开工率改善带动部分产品加工费回升、接单价格上行。
与此同时,年末谈价窗口正在把涨价预期提前交易出来,而4.5–5μm规格的溢价与结构性紧缺,正成为加工费回升的更直接抓手。
AI把“另一种铜箔”也推到台前:HVLP/RTF抢份额,挤压产能与研发投入
不容忽视的是,铜箔厂商眼下同时在两条赛道上“抢结构”:一边是锂电铜箔的极薄化,另一边是AI服务器与高阶PCB带动的高端电子电路铜箔(RTF、HVLP等)。
多份行业研究将AI相关的高频高速PCB/覆铜板需求与国产替代机会,直接指向HVLP(极低轮廓铜箔)与RTF等高端品类,并指出海外高端份额长期被日、韩企业占据,国内厂商正加速切入供应链、放量节奏与验证进度成为关键变量。
诺德纪要亦给出公司侧的路径:其RTF-3与HVLP-1/2已进入国内与台系头部客户体系,HVLP-3/4处于送样测试;现有14万吨产能中约3万吨具备高端电子电路铜箔能力,并判断AI带动PCB需求将使明年高端电子铜箔显著偏紧。
叠加市场对德福等企业高端箔放量与利润贡献的预期,行业正在形成一场围绕“高端电子铜箔产能卡位”的竞赛。
这场竞赛的外溢效应在于:高端电子铜箔与锂电铜箔虽同属铜箔,但在工艺控制、设备与验证体系上并非简单共线——一旦更多产能与工程资源被抽向HVLP/RTF(以及更高代际产品),对企业资本开支、研发投入与产线排布都会形成再平衡压力:
既要满足锂电端对极薄化、良率与规模交付的要求,又要满足电子端对低粗糙度、一致性与客户认证周期的硬约束。
对行业而言,这意味着未来一段时间“产能名义增加”未必等同于“有效供给增加”,结构性紧张可能更频繁地体现在高端规格上。
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