薄膜技术

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薄膜技术(thin film technique)是薄膜制备、测试等相关的各种技术的总称。

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  • UDC的OVJP技术已展现出作为 OLED 电视制造商完整沉积解决方案的巨大潜力
    CINNO Research产业资讯,9月26日消息,据了解,Universal Display Corporation (UDC)公司的有机蒸汽喷射打印 (OVJP,Organic Vapor Jet Printing) 技术已经在很多地方展现出作为OLED大尺寸电视制造商完整沉积解决方案的巨大潜力。实际上,这项技术的前景并不局限于上述这种干法打印OLED显示屏。 为此,UDC公司前些年成立了一
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    09/28 10:10
  • 一文了解薄膜制备技术
    薄膜外延生长技术广泛应用于半导体器件等领域,主要包括真空蒸镀法、溅射沉积法和化学浴沉积法。真空蒸镀法适用于低温材料,优点是成本低、设备简单,但膜层结合力较弱;溅射沉积法则通过等离子体轰击靶材,成膜速度快,适合大面积薄膜,但存在缺陷密度高问题;化学浴沉积法成本低、工艺简单,适合制备PbSe等薄膜。
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  • 一文了解薄膜制备(MOCVD 磁控溅射 PECVD)技术
    这一篇将会介绍几种薄膜制备方法,在半导体加工工艺中,被提及最多就是光刻和刻蚀,其次就是外延(薄膜)工艺了。为什么芯片制造需要薄膜工艺呢?
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  • 一文了解原子层沉积(ALD)薄膜制备技术
    CVD 技术是一种在真空环境中通过衬底表面化学反应来进行薄膜生长的过程,较短的工艺时间以及所制备薄膜的高致密性,使 CVD 技术被越来越多地应用于薄膜封装工艺中无机阻挡层的制备。
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  • 一文了解芯片镀膜技术及检测方法
    薄膜外延生长是一种关键的材料制备方法,其广泛应用于半导体器件、光电子学和纳米技术领域。该过程涉及材料的原子或分子逐层沉积在衬底表面,形成具有特定性能和结构的薄膜,因此其生长过程会直接影响到薄膜的结构以及其最终性能。
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