2nm工艺

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  • 1.4nm,提前实现良率!
    据消息人士透露,台积电的A14节点已提前实现了良率,重要的是,A14相比N2节点的预期性能提升。 据官方公布的细节,A14工艺相比即将量产的2nm(N2)会有非常显著的提升。在相同功耗下,A14 的速度可以提升大约15%。如果保持速度不变,功耗能下降30%左右。芯片逻辑密度也能提高20%, 这意味着在同样大小的芯片上,能塞进更多晶体管,性能和能效同时得到优化。 实现这些提升的关键在于,台积电采用了
  • 世界芯片产业地图——中国台湾
    在全球半导体产业链中,中国台湾地区始终扮演着“核心供给者”的关键角色。截至 2024 年,中国台湾地区贡献了全球56%的晶圆代工产能,其中台积电独占52%;近30%的封测产能,日月光集团稳居全球第一;以及超20%的半导体设计产值。从 AI 芯片的先进制程代工,到汽车电子的特色工艺供给,再到消费电子的封测服务,中国台湾地区半导体产业已深度嵌入全球科技制造的“命脉环节”,成为支撑全球算力、智能终端发展
    1.6万
    09/23 08:44
    世界芯片产业地图——中国台湾
  • 重大突破:台积电霸主地位难保? 背后的“隐形冠军”  直击2nm
    日本半导体企业Rapidus 在 2025 年7月18日宣布,其位于北海道千岁市的创新集成制造工厂(IIM-1)已启动 2 纳米“全环绕栅极”(Gate-All-Around)GAA晶体管结构的原型试制,并完成首批晶圆的电性参数测试。
    重大突破:台积电霸主地位难保? 背后的“隐形冠军”  直击2nm
  • 三星2nm良率6个月内将提至70%
    三星电子的晶圆代工部门过去几年在5纳米(纳米,十亿分之一米)和3纳米制程上屡屡受阻,如今正全力投入将于今年下半年开始的、明年将引领先进芯片市场的2纳米制程。据悉,三星电子计划在年内将2纳米制程的良率提升至70%,以吸引大客户。 三星电子的晶圆代工部门每季度都录得数万亿韩元的亏损,更糟糕的是,其位于德克萨斯州泰勒的工厂明年还必须重新投入运营。如果目前处于低开工率困境的晶圆代工部门,即使在美国建立新的
    三星2nm良率6个月内将提至70%
  • 先进制程巨头“联姻”,一场怎样的阳谋?
    全球半导体先进制程正陷入一种前所未有的“胶着态”。在2nm工艺的全球竞赛进入倒计时之际,英特尔代工仍在亏损,急于找到有效的“输血”途径;台积电则在关税等阴云笼罩下,为求得一条平衡全球业务布局的道路而不停奔波。
    先进制程巨头“联姻”,一场怎样的阳谋?
  • 2nm战场,好戏来了
    本周,2nm在各大网站强势刷屏。台积电此前表示,2nm芯片将于4月1日起接受订单预订。随着时间逐渐来到4月,它终于犹抱琵琶半遮面,缓缓露出真容。台积电、Intel、Rapidus等芯片巨头均在本周再度更新了2nm芯片的量产进展。
    2nm战场,好戏来了
  • 2nm工艺大考倒计时
    台积电近期表示,2nm工艺技术进展良好,将如期在今年下半年量产,产能在今年年底前有望达到5万片,甚至有机会迈上8万片台阶。
    2nm工艺大考倒计时
  • 2025年2纳米晶圆厂全力加速建设
    ChatGPT之后,DeepSeek横空出世,助力AI大模型持续升温。AI驱动之下,先进制程芯片需求持续高涨。当前3纳米芯片已经实现量产,为满足未来市场对更先进制程芯片的需求,多家厂商积极布局2纳米晶圆厂,且目标2025年量产/试产。随着目标时间临近,2纳米晶圆厂建设进入全力加速阶段。
    2025年2纳米晶圆厂全力加速建设
  • 2nm,要来了
    在半导体制造中,2nm工艺是继3nm工艺节点之后的下一个MOSFET(金属氧化物半导体场效应晶体管)芯片微缩技术。“2nm”或“20埃”(英特尔使用的术语)与晶体管的任何实际物理特征(例如栅极长度、金属间距或栅极间距)无关。根据电气和电子工程师协会(IEEE)发布的2021 年更新的《国际设备和系统路线图》中的预测,“2.1 nm节点范围标签”预计接触栅极间距为 45 nm,最紧密金属间距为 20 nm。
    2nm,要来了
  • 良率超预期 台积电2nm工艺产量年内提至5万片
    数年前,位于中国台湾新竹科学园区的台积电宝山工厂的建设正式启动,旨在满足市场对先进半导体技术的迫切需求。该工厂主要承担2nm及更先进制程工艺的生产任务,计划分阶段建设多个晶圆厂(如P1至P4),以逐步扩大2nm工艺的产能。
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    01/05 09:25
    良率超预期 台积电2nm工艺产量年内提至5万片
  • 进程提前半年,台积电2nm上线倒计时
    11月26日,台积电在高雄的2nm新厂举行设备进机典礼。原本高雄工厂的计划是在2025年中期引进设备,年底进行生产。受益于需求高涨,台积电高雄工厂的时间线整整提前了半年,这也把全球2nm制造的时间表向前推进了一步。
    进程提前半年,台积电2nm上线倒计时
  • 一座12英寸晶圆厂启动,一座2nm晶圆厂将完工
    晶圆代工大厂近期动态频频,牵动晶圆代工版图变动。世界先进公开表示,正式进军12英寸晶圆代工,并再度开启下个30年的技术策略转型之路,碳化硅领域也收入发展版图;印度首座12英寸晶圆厂已启动,目前印度政府已经批准了五座价值约180亿美元的半导体工厂建设案;此外由台积电建设的全球首座2nm晶圆厂,本月末将完工。行业多方表示,AI相关需求未来还将迸发更大潜力,台积电的盈利还将进一步水涨船高。
    一座12英寸晶圆厂启动,一座2nm晶圆厂将完工
  • 摩尔定律再进化,2纳米之后芯片如何继续突破物理极限
    提到集成电路行业,那么永远绕不过一个名词,就是摩尔定律。但摩尔定律只是经验之谈,本质是预测,并非什么物理层面的约束。当时间来到2024年,等效3nm已经商用,而2nm甚至1nm都已被提上日程,未来十年,摩尔定律又将走向何处呢?一些新技术或许会给我们带来答案。
    摩尔定律再进化,2纳米之后芯片如何继续突破物理极限
  • 三星公布最新先进工艺技术路线图 2nm工艺竞争升级
    近日,三星在美国加州圣何塞举行的三星晶圆代工论坛(SFF)上表示,在过去一年中,三星代工的AI需求相关销售额增长了80%,预计到2028年,其AI芯片代工客户数量将比2023年增加4倍,代工销售额将比2023年增加9倍。三星还公布了其最新的工艺技术路线图,包括两个新的工艺节点—SF2Z和SF4U,并且将为其代工客户提供全面的“一站式”人工智能解决方案。
    三星公布最新先进工艺技术路线图 2nm工艺竞争升级
  • 深度丨2纳米变成新战场
    今年一月,荷兰ASML公司成功研制出首台High-NA EUV光刻机,并在公众面前进行了首次开箱展示。其创新技术能够将世界上最尖端的芯片制程由3纳米进一步缩减至2纳米,为全球半导体行业带来了划时代的突破。此次成果的亮相,标志着半导体厂商正式开启了2纳米芯片量产的新纪元。
    深度丨2纳米变成新战场
  • 深度丨台积电战略大调整,弃28nm,大扩产
    根据公开数据显示,台积电在2023年面临了挑战,其产能利用率下降至约80%,同时营收也有所减少。然而,随着2024年的到来,台积电迎来了转机。由于AI芯片需求的迅猛增长,台积电已成功获得了大量订单,并实现了产能的全面利用。
    深度丨台积电战略大调整,弃28nm,大扩产
  • 2纳米先进制程已近在咫尺!
    近日,IC设计大厂美满电子(Marvell)宣布与台积电的长期合作关系将扩大至2纳米,并开发业界首见针对加速基础设施优化的2纳米半导体生产平台。目前,行业内最先进的先进制程量产技术是3纳米工艺,由三星电子和台积电制造。随着英特尔拿下ASML的首台光刻机并更新最新代工版图,以及Rapidus与IBM合作日益密切,目前2纳米先进制程的竞争者以明显扩大为台积电、英特尔、三星、Rapidus、Marvell五家。
    2纳米先进制程已近在咫尺!
  • 深度丨2nm的竞争:台积电守,英特尔攻
    当前,芯片制造技术的竞争愈发白热化。台积电与英特尔这两大巨头在2nm至1nm制程领域争相推出更先进的制程工艺,力求占据市场先机。
    深度丨2nm的竞争:台积电守,英特尔攻
  • 2nm战役,台积电开始防守
    如今,芯片制造技术的竞争愈发激烈。台积电与英特尔这两大巨头在2nm到1nm制程领域竞相推出更先进的制程工艺,力图抢占市场先机。
    2nm战役,台积电开始防守
  • 佳能光刻机突破2nm制程?
    佳能半导体机器业务部长岩本和德表示,佳能采用纳米压印技术的光刻机有望生产2nm芯片,且成本可以降至传统光刻设备的一半。在岩本和德发声的4天以前,荷兰半导体设备制造商ASML宣布,已向英特尔交付了全球首台High NA(高数值孔径)EUV(极紫外)光刻系统,支持2nm制程及以下工艺的芯片制造。
    佳能光刻机突破2nm制程?

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