DUV_DUV是什么意思

工程师聊DUV光刻机和EUV光刻机的区别

DUV光刻机使用短波长激光，在空气中和水中进行精细加工，依赖于光学系统和产线经验来保证稳定性。EUV光刻机采用锡等离子体产生极紫外光，工作环境要求极高真空，需要克服光路损耗和污染风险。两者的主要区别在于光源、光路和掩模的不同，EUV面临更高的物理极限和技术挑战，需要全面系统的优化才能稳定运行。

老虎说芯

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10/15 10:38

光刻机 EUV光刻机

光刻工艺中g线、i线、DUV、EUV是什么意思？

不同波长的光源各自对应不同的技术节点和制造需求。从早期的 g线、i线到目前主流的 KrF、ArF 再到最尖端的 EUV，每一次升级都展现了更高分辨率和更先进的工艺水平。随着对器件尺寸不断逼近物理极限，EUV及其后续升级版本将持续发展。

老虎说芯

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03/20 12:20

EUV 光刻技术

半导体设备市场屡创新高，ASML揭秘背后四大增长动力！

近期，全球光刻机大厂ASML在“2024 Investor Day Meeting”（2024投资者日）活动上，对于半导体产业现状及未来发展趋势进行了分享，剖析了推动半导体设备市场的持续增长的四大关键驱动力：AI服务器市场的持续增长（对于先进制程的需求）、成熟制程市场的持续扩张、前端3D集成的趋势、先进封装市场的旺盛需求。

芯智讯

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01/10 14:22

半导体设备先进封装

美国施压之下，荷兰将禁止ASML对在华高端DUV设备维护？

8月29日消息，最新的业内消息显示，荷兰政府计划限制ASML在中国维修半导体设备的能力，这或将对于中国提升先进制程制造能力的努力造成打击。据熟悉内情的人士透露，在ASML某些在中国提供服务和备件的许可证于今年年底到期后，荷兰首相迪克·肖夫政府很可能不再为其续期。这一决定预计将涉及该公司的高端深紫外光刻（DUV）设备。

芯智讯

1157

2024/08/30

半导体设备 ASML