EUV

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极紫外辐射(EUV)或高能紫外辐射是波长在124nm到10nm之间的电磁辐射,对应光子能量为10eV到124eV。自然界中,日冕会产生EUV。人工EUV可由等离子源和同步辐射源得到。主要用途包括光电子谱,对日EUV成像望远镜,光微影技术。 EUV是最易被空气吸收的谱段,因此其传输环境需高度真空。

极紫外辐射(EUV)或高能紫外辐射是波长在124nm到10nm之间的电磁辐射,对应光子能量为10eV到124eV。自然界中,日冕会产生EUV。人工EUV可由等离子源和同步辐射源得到。主要用途包括光电子谱,对日EUV成像望远镜,光微影技术。 EUV是最易被空气吸收的谱段,因此其传输环境需高度真空。收起

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  • 汤之上隆:台积电的竞争力,来自超150种EUV设备
    台积电2025年第三季度销售额和营业利润创新高,分别达到331亿美元和167.5亿美元,营业利润率回升至50%以上。台积电的销售额主要来源于3nm和5nm制程节点,尤其是5nm和3nm节点的销售额增长显著。相比之下,7nm及以下制程节点的销售额和晶圆投入量呈下降趋势。台积电的核心业务从智能手机转向人工智能半导体,高性能计算业务迅速崛起,预计到2025年将成为最大收入来源。台积电凭借强大的EUV光刻技术优势,保持领先地位,其设备数量远超竞争对手。
    汤之上隆:台积电的竞争力,来自超150种EUV设备
  • ASML发布2025年第三季度财报
    净销售额75亿欧元,净利润21亿欧元;预计2025年全年净销售额将增长约15%,毛利率约为52% 阿斯麦(ASML)发布2025年第三季度财报。2025年第三季度,ASML实现净销售额75亿欧元,毛利率为51.6%,净利润达21亿欧元。第三季度的新增订单金额为54亿欧元2,其中36亿欧元为EUV光刻机订单。ASML预计2025年第四季度净销售额在92亿至98亿欧元之间,毛利率介于51%至53%;预
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    10/15 11:33
    ASML发布2025年第三季度财报
  • 嵌入式电子的复杂世界:独立生态系统的分层迷宫
    从外部看,电子系统仿佛一个统一的学科或设备,各组成部分协同工作,浑然一体。然而揭开表象,其内在却是另一番景象:一个碎片化、多层次的世界——其中每一层都独立且复杂,衍生出各自特有的工具、专家、工作流程,甚至哲学体系。 这既是其美妙之处,也是挑战所在:它宛如一支没有指挥的管弦乐队: 每一层都如同一个独立的学科,遵循自己的创新曲线,以自身的节奏发展着。在半导体领域,我们已将技术边界推向物理极限:采用极紫
    嵌入式电子的复杂世界:独立生态系统的分层迷宫
  • ASML EUV光刻之路还能走多远?
    虽然近期台积电高管表示,台积电接下来的A16/A14制程都不会采用ASML售价高达4亿美元的High NA EUV光刻机(具有0.5数值孔径),但是英特尔则已经决定在其下一代的Intel 14A制程上选择采用High NA EUV光刻机进行量产。与此同时,为了解决为了的1nm以下制程的制造问题,ASML正在积极的研发具有0.75NA的Hyper NA EUV光刻机,这也意味着其将面临更大的技术挑战,要知道ASML花了约20年的时间才成功推动标准型EUV光刻机的规模商用。
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    06/17 09:35
    ASML EUV光刻之路还能走多远?
  • ASML发布2025年第一季度财报 | 净销售额77亿欧元,净利润24亿欧元
    阿斯麦(ASML)发布2025年第一季度财报。2025年第一季度,ASML实现净销售额77亿欧元,毛利率为54%,净利润达24亿欧元。第一季度的新增订单金额为39亿欧元2,其中12亿欧元为EUV光刻机订单。ASML预计2025年第二季度净销售额在72亿至77亿欧元之间,毛利率介于50%至53%3;对2025年展望保持不变,预计全年净销售额在300亿至350亿欧元之间,毛利率介于51%至53%。 (
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    04/16 08:12
    ASML发布2025年第一季度财报 | 净销售额77亿欧元,净利润24亿欧元
  • TEL谈半导体设备厂商的增长点
    作为一家已经有超过60年历史的老牌半导体设备厂商,TOKYO ELECTRON(简称TEL)在全球半导体产业的市场地位毋庸置疑,援引2023年的全球市场份额数据,TEL主打的十大支柱产品中,涂胶显影设备的市场占有率为90%(其中配合EUV的涂胶显影设备达到100%的市占率),干法刻蚀设备的占有率为22%,成膜设备为31%(其中原子层沉积设备为16%,化学气相沉积设备为40%,氧化扩散设备为40%)
    TEL谈半导体设备厂商的增长点
  • EUV新局,巨头们的攻守之道
    如今,人工智能芯片的需求正以指数级速度疯涨,可高昂的成本和复杂的工艺,让这项技术沦为少数公司的 “专属”。不过,转机或许很快就会出现。为了给五花八门的人工智能应用 “撑腰”,对先进制程芯片的渴求一路狂飙,这给整个行业的供应能力带来了巨大压力。不管是支撑大型语言模型的超大规模数据中心,还是智能手机、物联网设备、自主系统里的边缘人工智能,前沿半导体在各个应用场景下的需求都在快速增长。但芯片制造严重依赖极紫外光刻(EUV)技术,该技术却成为扩大生产规模的关键阻碍。
    EUV新局,巨头们的攻守之道
  • 光刻工艺中g线、i线、DUV、EUV是什么意思?
    不同波长的光源各自对应不同的技术节点和制造需求。从早期的 g线、i线到目前主流的 KrF、ArF 再到最尖端的 EUV,每一次升级都展现了更高分辨率和更先进的工艺水平。随着对器件尺寸不断逼近物理极限,EUV及其后续升级版本将持续发展。
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  • ASML CEO谈半导体产业、EUV、中美技术差距、AI以及分享工作经验
    Christophe Fouquet,ASML现任CEO,一个极其通透的人,一个优秀的技术公司领袖,一个看穿半导体产业规律的行业专家。他说,谦逊是领导力第一要素;他说,当你不再为证明自己而战时,你就获得了工作上的自由;他说,做决策时要冷静,你可以根据自己的呼吸是否还平稳来判定自己的情绪;他说现在的人们太聪明,很多人不知道活在当下,enjoy your moment。
    ASML CEO谈半导体产业、EUV、中美技术差距、AI以及分享工作经验
  • ASML发布2024年全年财报 | 净销售额283亿欧元,净利润76亿欧元
    阿斯麦(ASML)发布2024年第四季度及全年财报。2024年第四季度,ASML实现净销售额93亿欧元,毛利率为51.7%,净利润达27亿欧元。2024年第四季度的新增订单金额为71亿欧元2,其中30亿欧元为EUV光刻机订单。2024年全年净销售额达283亿欧元,毛利率为51.3%,净利润为76亿欧元。ASML预计2025年第一季度净销售额在75亿至80亿欧元之间,毛利率介于52%至53%;202
    ASML发布2024年全年财报 | 净销售额283亿欧元,净利润76亿欧元
  • 2029年,半导体行业“奇点”来临
    当笔者在读到美国发明家雷·库兹韦尔(Ray Kurzweil)的著作《后人类》时,我意识到:“能力呈指数级提高的人工智能(AI)将在2045年惠及全人类。”
    2029年,半导体行业“奇点”来临
  • EUV掩膜版清洗技术挑战及解决方案
    EUV(极紫外光)掩膜版是现代半导体制造工艺中关键的元件之一,在集成电路的光刻过程中扮演着至关重要的角色。由于EUV技术的精密性和高要求,掩膜版的质量直接影响到最终成品的良率。而在这些技术中,清洗掩膜版是一个不可忽视的环节。尽管EUV掩膜版的清洗步骤相较于硅片的清洗流程较少,但其面临的挑战却异常复杂,主要体现在颗粒去除、材料损伤、污染控制等方面。
    EUV掩膜版清洗技术挑战及解决方案
  • ASML在2024 年投资者日会议上就市场机遇提供最新看法有望在2030年内实现营收和盈利的显著增长
    在今日举办的2024 年投资者日会议上,ASML将更新其长期战略以及全球市场和技术趋势分析,确认其到2030年的年收入将达到约440 亿至 600 亿欧元,毛利率约为56%至 60%。 ASML总裁兼首席执行官傅恪礼(Christophe Fouquet)表示:“我们预计,在下一个十年我们有能力将EUV技术推向更高水平,并扩展广泛适用的全景光刻产品组合,使 ASML 能够充分参与和抓住人工智能机遇
  • ASML:EUV技术领域不会面临中国公司的竞争!
    6月6日消息,ASML首席财务官Roger Dassen近日在 Jefferies证券主持的投资者电话会议上表示,ASML与台积电的商业谈判即将结束,预计在第二季度或第三季度开始获得“大量” 2nm芯片制造相关设备订单。同时,Jefferies报告称台积电已经订购了High NA EUV光刻机。
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    2024/06/07
    ASML:EUV技术领域不会面临中国公司的竞争!
  • EUV光刻机“忙疯了”
    据市场消息,目前,ASML High NA EUV光刻机仅有两台,如此限量版的EUV关键设备必然无法满足市场对先进制程芯片的需求,为此ASML布局步伐又迈一步。
    EUV光刻机“忙疯了”
  • EUV光刻机变数陡增
    最近,关于EUV光刻机,又有劲爆消息传出。据外媒报道,有消息人士透露,由于美国施压,ASML向荷兰政府官员保证,在特殊情况下,该公司有能力远程瘫痪(remotely disable)台积电使用的EUV光刻机。知情人士称,ASML拥有“锁死开关”(kill switch),可以远端强制关闭EUV。
    EUV光刻机变数陡增
  • 英特尔在可扩展硅基量子处理器领域取得突破,向量子实用性更进一步
    英特尔在《自然》杂志发表题为《检测300毫米自旋量子比特晶圆上的单电子器件》的研究论文,展示了领先的自旋量子比特均匀性、保真度和测量数据。这项研究为硅基量子处理器的量产和持续扩展(构建容错量子计算机的必要条件)奠定了基础。 英特尔打造的300毫米自旋量子比特晶圆 英特尔的量子硬件研究人员开发了一种300毫米低温检测工艺,使用互补金属氧化物半导体(CMOS)制造技术,在整个晶圆上收集有关自旋量子比特
    英特尔在可扩展硅基量子处理器领域取得突破,向量子实用性更进一步
  • 高NA EUV迎来制程的岔路口
    半导体行业的领军企业正努力争取进入所谓的“埃时代”(Angstrom era)。在所谓的3nm工艺节点附近的节点上,以“埃”而不是以“纳米”来命名技术节点成为了一种时尚,因此不是1.5nm,而是15埃。正是在这一点上,对晶圆上更精细图案的要求超出了当今EUV光刻系统和程序的能力。
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    2024/04/23
    高NA EUV迎来制程的岔路口
  • 美国,为什么爱盯着荷兰的光刻机?
    全球光刻机巨头ASML(阿斯麦)的新年开篇颇有些闹心。新年首日,ASML发布公告称,荷兰政府最近吊销部分了2023年发货的NXT:2050i和NXT:2100i光刻系统的许可证,影响了少数中国客户。吊销举措比荷兰出口管制新规原定生效的日期提前了数星期。当然,这背后少不了美国政府的施压。“在美国拜登政府的要求下”,彭博社如此形容道。
    美国,为什么爱盯着荷兰的光刻机?
  • 为了阻击台积电和日本半导体,韩国也是拼了
    12月中旬,韩国总统尹锡悦与荷兰首相马克·吕特发表联合声明,双方构建“半导体同盟”。双方一致认为,两国在全球半导体供应链中有着特殊的互补关系,并重申构建覆盖政府、企业、高校的半导体同盟的决心。为此,双方商定新设经贸部门之间的半导体对话协商机制,同时推进半导体专业人才培养项目。
    为了阻击台积电和日本半导体,韩国也是拼了

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