EUV光刻胶_EUV光刻胶是什么意思

半导体光刻胶去胶液（剥离液）国产方案 - 亦盛科技

亦盛科技推出光刻胶去胶液产品，助力半导体图形化工艺洁净升级在半导体芯片制造的光刻工艺中，去胶（即光刻胶去除）是必不可少的关键环节。无论是刻蚀、离子注入后的残留光刻胶清除，还是晶圆制程中的表面净化，去胶液（剥离液）的性能直接关系到后续工艺的稳定性和芯片最终良率。广州亦盛环保科技有限公司（以下简称“亦盛科技”）依托在半导体湿电子化学品领域十余年的技术积累，正式推出高性能光刻胶去胶液系列产品，为半

亦盛科技

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04/29 10:27

半导体材料光刻胶

国产EUV光刻胶重大突破！竟来自中国这所高校

近日，从清华大学官网获悉，日前，清华大学许华平团队研发出基于聚碲氧烷的新型极紫外光刻胶，通过碲元素高吸收特性和主链断裂机制，同步实现高灵敏度、分子级均一性和小尺寸单元，突破当前光刻胶技术瓶颈，为7nm以下半导体制造提供关键材料解决方案，成果发表于《科学进展》。图：来自清华大学官网图：聚碲氧烷：理想的EUV光刻胶材料来自清华大学官网该研究提供了一种融合高吸收元素Te、主链断裂机

芯科技圈

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2025/07/29

半导体 EUV光刻胶

日本光刻胶市场地位：是否真的坚不可摧？

近期，随着全球半导体市场逐渐回暖，光刻胶作为半导体工艺中不可或缺的重要材料，其生产厂商的订单也开始增多，扩大产能成了新风向。例如，信越化学宣布，为了扩大半导体光刻材料业务，决定在日本群马县伊势崎市新建其第四座生产工厂。东京应化宣布在韩国京畿道平泽市新建工厂，作为其在韩国的光刻胶研发、生产和销售基地。当前，日本企业占据了全球光刻胶市场约70%到90%的份额，特别是在高端的ArF和EUV光刻胶领域，市场占有率甚至超过90%，光刻胶也成为了日本在全球半导体制造链中的绝对依仗。

中国电子报

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2024/05/16

光刻胶 EUV光刻胶